Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings
To obtain micrometric gratings with a high aspect ratio by lithographic technique, it is proposed to use a proton beam focused in a line and electromagnetic scanning in the transverse direction to irradiate the resistive material. Numerical modeling is carried out to optimize the parameters of the...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2018 |
| Main Authors: | , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2018
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147662 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings / A.G. Ponomarev, S.V. Kolinko, V.A. Rebrov, V.N. Kolomiets, S.N. Kravchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 285-288. — Бібліогр.: 13 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-147662 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Ponomarev, A.G. Kolinko, S.V. Rebrov, V.A. Kolomiets, V.N. Kravchenko, S.N. 2019-02-15T17:22:43Z 2019-02-15T17:22:43Z 2018 Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings / A.G. Ponomarev, S.V. Kolinko, V.A. Rebrov, V.N. Kolomiets, S.N. Kravchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 285-288. — Бібліогр.: 13 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 42.82.Cr; 85.40.Hp; 81.16.Nd https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147662 To obtain micrometric gratings with a high aspect ratio by lithographic technique, it is proposed to use a proton beam focused in a line and electromagnetic scanning in the transverse direction to irradiate the resistive material. Numerical modeling is carried out to optimize the parameters of the probe forming system for this task. The calculations were confirmed during the experimental implementation of the proposed technique. A grating from the 23.4×2060 μm lines was made. Для виробництва мікродифракційних граток з великим аспектним співвідношенням методом літографії запропоновано застосувати для опромінення фоторезисту протонний пучок, сфокусований в лінію, та електромагнітне сканування в поперечному напрямку. Проведене чисельне моделювання з оптимізації параметрів ЗФС для даної задачі. Розрахунки підтверджено при експериментальній реалізації запропонованого методу, виготовлено гратку зi смугами розмірами 23,4×2060 мкм. Для получения микродифракционных решеток с высоким аспектным соотношением методом литографии предложено использовать для облучения фоторезиста протонный пучок, сфокусированный в линию, и электромагнитное сканирование в поперечном направлении. Проведено численное моделирование по оптимизации параметров ЗФС для данной задачи. Расчеты подтверждены при экспериментальной реализации предложенного метода, получена решетка из полос размерами 23,4×2060 мкм. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Приложения и технологии Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings Використання протонно-променевої літографії для фабрикації мікродифракційних граток Применение протонно-лучевой литографии для фабрикации микродифракционных решеток Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings |
| spellingShingle |
Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings Ponomarev, A.G. Kolinko, S.V. Rebrov, V.A. Kolomiets, V.N. Kravchenko, S.N. Приложения и технологии |
| title_short |
Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings |
| title_full |
Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings |
| title_fullStr |
Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings |
| title_full_unstemmed |
Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings |
| title_sort |
using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings |
| author |
Ponomarev, A.G. Kolinko, S.V. Rebrov, V.A. Kolomiets, V.N. Kravchenko, S.N. |
| author_facet |
Ponomarev, A.G. Kolinko, S.V. Rebrov, V.A. Kolomiets, V.N. Kravchenko, S.N. |
| topic |
Приложения и технологии |
| topic_facet |
Приложения и технологии |
| publishDate |
2018 |
| language |
English |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Використання протонно-променевої літографії для фабрикації мікродифракційних граток Применение протонно-лучевой литографии для фабрикации микродифракционных решеток |
| description |
To obtain micrometric gratings with a high aspect ratio by lithographic technique, it is proposed to use a proton
beam focused in a line and electromagnetic scanning in the transverse direction to irradiate the resistive material.
Numerical modeling is carried out to optimize the parameters of the probe forming system for this task. The calculations were confirmed during the experimental implementation of the proposed technique. A grating from the
23.4×2060 μm lines was made.
Для виробництва мікродифракційних граток з великим аспектним співвідношенням методом літографії
запропоновано застосувати для опромінення фоторезисту протонний пучок, сфокусований в лінію, та електромагнітне сканування в поперечному напрямку. Проведене чисельне моделювання з оптимізації параметрів
ЗФС для даної задачі. Розрахунки підтверджено при експериментальній реалізації запропонованого методу,
виготовлено гратку зi смугами розмірами 23,4×2060 мкм.
Для получения микродифракционных решеток с высоким аспектным соотношением методом литографии предложено использовать для облучения фоторезиста протонный пучок, сфокусированный в линию, и
электромагнитное сканирование в поперечном направлении. Проведено численное моделирование по оптимизации параметров ЗФС для данной задачи. Расчеты подтверждены при экспериментальной реализации
предложенного метода, получена решетка из полос размерами 23,4×2060 мкм.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147662 |
| fulltext |
|
| citation_txt |
Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings / A.G. Ponomarev, S.V. Kolinko, V.A. Rebrov, V.N. Kolomiets, S.N. Kravchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 285-288. — Бібліогр.: 13 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT ponomarevag usingofprotonbeamwritingtechniquesforfabricationofmicrodifractiongratings AT kolinkosv usingofprotonbeamwritingtechniquesforfabricationofmicrodifractiongratings AT rebrovva usingofprotonbeamwritingtechniquesforfabricationofmicrodifractiongratings AT kolomietsvn usingofprotonbeamwritingtechniquesforfabricationofmicrodifractiongratings AT kravchenkosn usingofprotonbeamwritingtechniquesforfabricationofmicrodifractiongratings AT ponomarevag vikoristannâprotonnopromenevoílítografíídlâfabrikacíímíkrodifrakcíinihgratok AT kolinkosv vikoristannâprotonnopromenevoílítografíídlâfabrikacíímíkrodifrakcíinihgratok AT rebrovva vikoristannâprotonnopromenevoílítografíídlâfabrikacíímíkrodifrakcíinihgratok AT kolomietsvn vikoristannâprotonnopromenevoílítografíídlâfabrikacíímíkrodifrakcíinihgratok AT kravchenkosn vikoristannâprotonnopromenevoílítografíídlâfabrikacíímíkrodifrakcíinihgratok AT ponomarevag primenenieprotonnolučevoilitografiidlâfabrikaciimikrodifrakcionnyhrešetok AT kolinkosv primenenieprotonnolučevoilitografiidlâfabrikaciimikrodifrakcionnyhrešetok AT rebrovva primenenieprotonnolučevoilitografiidlâfabrikaciimikrodifrakcionnyhrešetok AT kolomietsvn primenenieprotonnolučevoilitografiidlâfabrikaciimikrodifrakcionnyhrešetok AT kravchenkosn primenenieprotonnolučevoilitografiidlâfabrikaciimikrodifrakcionnyhrešetok |
| first_indexed |
2025-11-25T20:44:30Z |
| last_indexed |
2025-11-25T20:44:30Z |
| _version_ |
1850536782734557184 |