Investigation of copper samples with ion-plasma treatment on the high voltage breakdowns

• Опубліковано в: : Вопросы атомной науки и техники
• Дата: 2018
• Автори: Baturin, V.A., Karpenko, A.Yu., Storizhko, V.Е., Shutko, V.A.
• Формат: Стаття
• Мова: Англійська
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2018
• Теми: Приложения и технологии
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147663
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Investigation of copper samples with ion-plasma treatment on the high voltage breakdowns / V.A. Baturin, A.Yu. Karpenko, V.Е. Storizhko, V.A. Shutko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 297-301. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

The paper presents the results of studies of the effect of ion-plasma treatment of copper surfaces on their resistance to high-vacuum breakdowns. It has been experimentally shown that the plasma and ion-beam modification
 of the copper surface leads to an increase of the breakdown voltage from 5 to 35%, depending on the modification
 method, and reduces the dark current of the anode-cathode. Представлено результати досліджень впливу іонно-плазмової обробки поверхні міді на її стійкість до високо вакуумних пробоїв. Експериментально показано, що плазмова та іонно-променева модифікації поверхні міді призводять до збільшення пробивної напруги від 5 до 35%, в залежності від методу модифікації, та
 зменшення темного струму анодного катода. Представлены результаты исследований влияния ионно-плазменной обработки поверхности меди на её
 сопротивление сильным вакуумным пробоям. Экспериментально показано, что плазменная и ионно-лучевая
 модификации поверхности меди приводят к увеличению пробивного напряжения от 5 до 35%, в зависимости от метода модификации, и уменьшению темного тока анодного катода.