Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат

• Datum: 2008
• Hauptverfasser: Сисюк, В.Г., Грищенко, В.К., Гранчак, В.М., Бубнова, А.С., Давискиба, П.М.
• Format: Artikel
• Sprache: Ukrainisch
• Veröffentlicht: Видавничий дім "Академперіодика" НАН України 2008
• Schlagworte: Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/14830
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат / В.Г. Сисюк, В.К. Грищенко, В.М. Гранчак, А.С. Бубнова, П.М. Давискиба // Наука та інновації. — 2008. — Т. 4, № 6. — С. 5-11. — Бібліогр.: 13 назв. — укр.

Розроблені фотополімеризаційноздатні композиції на основі лугорозчинного полімеру та олігоефіракрилатів і епоксиакрилатів для створення захисних покриттів (масок) плат друкованого монтажу. Досліджено вплив олігомерних складових на фізико-механічні властивості полімерного матеріалу. Проведена оптимізація складу фоточутливої композиції для виготовлення трафаретної фарби з метою формування захисного покриття (маски) високої якості та випробування фарби та покриття на виробництві. Разработаны фотополимеризационноспособные композиции на основе щелочерастворимого полимера с добавлением олигоэфиракрилатов и эпоксиакрилатов для создания защитных покрытий (масок) плат печатного монтажа. Исследовано влияние олигомерных составляющих на физико-химические и физико-механические свойства полимерного материала. Проведена оптимизация состава фоточувствительной композиции для изготовления трафаретной краски с целью формирования изображения защитного покрытия (маски) высокого качества и испытания краски и покрытия на производстве/ Photopolymerable compositions based on alkali-soluble polymers with oligoetheracrylate and epoxyacrylate are developed for creation of protective coatings (masks) of board circuit wiring. The influence of oligomer components on physicochemical and physicomechanical properties of a polymeric material is investigated. Optimization of photosensitive composition structure, which was used for screen printing manufacturing, is lead with the purpose of the high quality protective coating (mask) image formation and its testing at manufacture. Key words: board, protective coating, photopolymer composition, modification, reactive oligomer, imaging, optimization.