Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат

Розроблені фотополімеризаційноздатні композиції на основі лугорозчинного полімеру та олігоефіракрилатів і епоксиакрилатів для створення захисних покриттів (масок) плат друкованого монтажу. Досліджено вплив олігомерних складових на фізико-механічні властивості полімерного матеріалу. Проведена оптимі...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2008
Hauptverfasser: Сисюк, В.Г., Грищенко, В.К., Гранчак, В.М., Бубнова, А.С., Давискиба, П.М.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainian
Veröffentlicht: Видавничий дім "Академперіодика" НАН України 2008
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/14830
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат / В.Г. Сисюк, В.К. Грищенко, В.М. Гранчак, А.С. Бубнова, П.М. Давискиба // Наука та інновації. — 2008. — Т. 4, № 6. — С. 5-11. — Бібліогр.: 13 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-14830
record_format dspace
spelling Сисюк, В.Г.
Грищенко, В.К.
Гранчак, В.М.
Бубнова, А.С.
Давискиба, П.М.
2010-12-29T11:18:23Z
2010-12-29T11:18:23Z
2008
Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат / В.Г. Сисюк, В.К. Грищенко, В.М. Гранчак, А.С. Бубнова, П.М. Давискиба // Наука та інновації. — 2008. — Т. 4, № 6. — С. 5-11. — Бібліогр.: 13 назв. — укр.
1815-2066
DOI: doi.org/10.15407/scin4.06.005
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/14830
Розроблені фотополімеризаційноздатні композиції на основі лугорозчинного полімеру та олігоефіракрилатів і епоксиакрилатів для створення захисних покриттів (масок) плат друкованого монтажу. Досліджено вплив олігомерних складових на фізико-механічні властивості полімерного матеріалу. Проведена оптимізація складу фоточутливої композиції для виготовлення трафаретної фарби з метою формування захисного покриття (маски) високої якості та випробування фарби та покриття на виробництві.
Разработаны фотополимеризационноспособные композиции на основе щелочерастворимого полимера с добавлением олигоэфиракрилатов и эпоксиакрилатов для создания защитных покрытий (масок) плат печатного монтажа. Исследовано влияние олигомерных составляющих на физико-химические и физико-механические свойства полимерного материала. Проведена оптимизация состава фоточувствительной композиции для изготовления трафаретной краски с целью формирования изображения защитного покрытия (маски) высокого качества и испытания краски и покрытия на производстве/
Photopolymerable compositions based on alkali-soluble polymers with oligoetheracrylate and epoxyacrylate are developed for creation of protective coatings (masks) of board circuit wiring. The influence of oligomer components on physicochemical and physicomechanical properties of a polymeric material is investigated. Optimization of photosensitive composition structure, which was used for screen printing manufacturing, is lead with the purpose of the high quality protective coating (mask) image formation and its testing at manufacture. Key words: board, protective coating, photopolymer composition, modification, reactive oligomer, imaging, optimization.
uk
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
Фотополимерные композиционные материалы для защитных покрытий печатных плат
Photopolymeric composite materials for coatings board
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
spellingShingle Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
Сисюк, В.Г.
Грищенко, В.К.
Гранчак, В.М.
Бубнова, А.С.
Давискиба, П.М.
Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
title_short Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
title_full Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
title_fullStr Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
title_full_unstemmed Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
title_sort фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
author Сисюк, В.Г.
Грищенко, В.К.
Гранчак, В.М.
Бубнова, А.С.
Давискиба, П.М.
author_facet Сисюк, В.Г.
Грищенко, В.К.
Гранчак, В.М.
Бубнова, А.С.
Давискиба, П.М.
topic Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
topic_facet Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
publishDate 2008
language Ukrainian
publisher Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
format Article
title_alt Фотополимерные композиционные материалы для защитных покрытий печатных плат
Photopolymeric composite materials for coatings board
description Розроблені фотополімеризаційноздатні композиції на основі лугорозчинного полімеру та олігоефіракрилатів і епоксиакрилатів для створення захисних покриттів (масок) плат друкованого монтажу. Досліджено вплив олігомерних складових на фізико-механічні властивості полімерного матеріалу. Проведена оптимізація складу фоточутливої композиції для виготовлення трафаретної фарби з метою формування захисного покриття (маски) високої якості та випробування фарби та покриття на виробництві. Разработаны фотополимеризационноспособные композиции на основе щелочерастворимого полимера с добавлением олигоэфиракрилатов и эпоксиакрилатов для создания защитных покрытий (масок) плат печатного монтажа. Исследовано влияние олигомерных составляющих на физико-химические и физико-механические свойства полимерного материала. Проведена оптимизация состава фоточувствительной композиции для изготовления трафаретной краски с целью формирования изображения защитного покрытия (маски) высокого качества и испытания краски и покрытия на производстве/ Photopolymerable compositions based on alkali-soluble polymers with oligoetheracrylate and epoxyacrylate are developed for creation of protective coatings (masks) of board circuit wiring. The influence of oligomer components on physicochemical and physicomechanical properties of a polymeric material is investigated. Optimization of photosensitive composition structure, which was used for screen printing manufacturing, is lead with the purpose of the high quality protective coating (mask) image formation and its testing at manufacture. Key words: board, protective coating, photopolymer composition, modification, reactive oligomer, imaging, optimization.
issn 1815-2066
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/14830
citation_txt Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат / В.Г. Сисюк, В.К. Грищенко, В.М. Гранчак, А.С. Бубнова, П.М. Давискиба // Наука та інновації. — 2008. — Т. 4, № 6. — С. 5-11. — Бібліогр.: 13 назв. — укр.
work_keys_str_mv AT sisûkvg fotopolímerníkompozicíinímateríalidlâzahisnihpokrittívdrukovanihplat
AT griŝenkovk fotopolímerníkompozicíinímateríalidlâzahisnihpokrittívdrukovanihplat
AT grančakvm fotopolímerníkompozicíinímateríalidlâzahisnihpokrittívdrukovanihplat
AT bubnovaas fotopolímerníkompozicíinímateríalidlâzahisnihpokrittívdrukovanihplat
AT daviskibapm fotopolímerníkompozicíinímateríalidlâzahisnihpokrittívdrukovanihplat
AT sisûkvg fotopolimernyekompozicionnyematerialydlâzaŝitnyhpokrytiipečatnyhplat
AT griŝenkovk fotopolimernyekompozicionnyematerialydlâzaŝitnyhpokrytiipečatnyhplat
AT grančakvm fotopolimernyekompozicionnyematerialydlâzaŝitnyhpokrytiipečatnyhplat
AT bubnovaas fotopolimernyekompozicionnyematerialydlâzaŝitnyhpokrytiipečatnyhplat
AT daviskibapm fotopolimernyekompozicionnyematerialydlâzaŝitnyhpokrytiipečatnyhplat
AT sisûkvg photopolymericcompositematerialsforcoatingsboard
AT griŝenkovk photopolymericcompositematerialsforcoatingsboard
AT grančakvm photopolymericcompositematerialsforcoatingsboard
AT bubnovaas photopolymericcompositematerialsforcoatingsboard
AT daviskibapm photopolymericcompositematerialsforcoatingsboard
first_indexed 2025-12-07T15:43:23Z
last_indexed 2025-12-07T15:43:23Z
_version_ 1850864779755782144