Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела

В статье описаны физические принципы фотоэлектронной рентгеновской и ультрафиолетовой спектроскопии и спектроскопии Оже-электронов. Рассмотрено распре­деление по кинетической энергии электронов, образующихся в результате внешнего фотоэффекта, и электронов, покидающих атом при релаксации начального с...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Поверхность
Дата:2016
Автори: Теребинская, М.И., Ткачук, О.И., Лобанов, В.В.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України 2016
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/148506
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела / М.И. Теребинская, О.И. Ткачук, В.В. Лобанов // Поверхность. — 2016. — Вип. 8 (23). — С. 15-49. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862668127812190208
author Теребинская, М.И.
Ткачук, О.И.
Лобанов, В.В.
author_facet Теребинская, М.И.
Ткачук, О.И.
Лобанов, В.В.
citation_txt Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела / М.И. Теребинская, О.И. Ткачук, В.В. Лобанов // Поверхность. — 2016. — Вип. 8 (23). — С. 15-49. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Поверхность
description В статье описаны физические принципы фотоэлектронной рентгеновской и ультрафиолетовой спектроскопии и спектроскопии Оже-электронов. Рассмотрено распре­деление по кинетической энергии электронов, образующихся в результате внешнего фотоэффекта, и электронов, покидающих атом при релаксации начального состояния его остовной оболочки. Обсуждаются явления, определяющие форму, тонкую структуру, а также интенсивность спектральных линий. Подробно анализируются возможности качественного и количественного анализа атомного состава молекулярных систем, «ложные линии», химические сдвиги линий остовных уровней атомов, находящихся в различном химическом окружении. Анализ положения таких линий позволяет установить химический состав поверхности твердого тела и приповерхностной области. Надлежащее внимание уделено квантовохимическим методам нахождения энергии уровней остовных состояний и плотности одноэлектронных уровней валентных состояний, а также подходам, развитым для сравнения экспериментально полученных спектров фотоэлектронной рентгеновской и ультрафиолетовой спектроскопии и спектроскопии Оже-электронов с теоретически рассчитанными. The paper describes the physical principles of X-ray photoelectron and ultraviolet spectroscopy and Auger electron spectroscopy. We consider the distribution of the kinetic energy of the electrons formed as a result of the external photoelectric effect, and electrons leaves the atom with the relaxation of the initial state of its core-shell. We discuss the phenomena that determine the shape, the fine structure and the intensity of the spectral lines. Analyzed in detail the possibility of qualitative and quantitative analysis of the atomic composition, "false line", the chemical shifts of the lines of the core levels of atoms in different chemical environments. Analysis of these lines allows the chemical composition of the solid surface and near-surface region. Proper attention is paid to quantum-chemical methods of finding the energy levels of core states and density of states of the valence-electron levels and approaches developed to compare the experimentally obtained spectra of X-ray photoelectron and ultraviolet spectroscopy and Auger electron spectroscopy and theoretical calculations. У статті описані фізичні принципи фотоелектронної рентгенівської та ультрафіолетової спектроскопії і спектроскопії Оже-електронів. Розглянуто розподіл по кінетичної енергії електронів, що утворюються в результаті зовнішнього фотоефекту, і електронів, які залишають атом при релаксації початкового стану його остовної оболонки. Обговорюються явища, що визначають форму, тонку структуру, а також інтенсивність спектральних ліній. Детально аналізуються можливості якісного та кількісного аналізу атомного складу, «помилкові лінії», хімічні зсуви ліній остовних рівнів атомів, що знаходяться в різному хімічному оточенні. Аналіз положення таких ліній дозволяє встановити хімічний склад поверхні твердого тіла і приповерхневої області. Належна увага приділена квантовохімічним методам знаходження енергії рівнів остівних станів і густини одноелектронних рівнів валентних станів, а також підходам, розвиненим для порівняння експериментально отриманих спектрів фотоелектронної рентгенівської та ультрафіолетової спектроскопії і спектроскопії Оже-електронів з теоретично розрахованими.
first_indexed 2025-12-07T15:24:57Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-148506
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2617-5975
language Russian
last_indexed 2025-12-07T15:24:57Z
publishDate 2016
publisher Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
record_format dspace
spelling Теребинская, М.И.
Ткачук, О.И.
Лобанов, В.В.
2019-02-18T14:23:29Z
2019-02-18T14:23:29Z
2016
Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела / М.И. Теребинская, О.И. Ткачук, В.В. Лобанов // Поверхность. — 2016. — Вип. 8 (23). — С. 15-49. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.
2617-5975
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/148506
544.18
В статье описаны физические принципы фотоэлектронной рентгеновской и ультрафиолетовой спектроскопии и спектроскопии Оже-электронов. Рассмотрено распре­деление по кинетической энергии электронов, образующихся в результате внешнего фотоэффекта, и электронов, покидающих атом при релаксации начального состояния его остовной оболочки. Обсуждаются явления, определяющие форму, тонкую структуру, а также интенсивность спектральных линий. Подробно анализируются возможности качественного и количественного анализа атомного состава молекулярных систем, «ложные линии», химические сдвиги линий остовных уровней атомов, находящихся в различном химическом окружении. Анализ положения таких линий позволяет установить химический состав поверхности твердого тела и приповерхностной области. Надлежащее внимание уделено квантовохимическим методам нахождения энергии уровней остовных состояний и плотности одноэлектронных уровней валентных состояний, а также подходам, развитым для сравнения экспериментально полученных спектров фотоэлектронной рентгеновской и ультрафиолетовой спектроскопии и спектроскопии Оже-электронов с теоретически рассчитанными.
The paper describes the physical principles of X-ray photoelectron and ultraviolet spectroscopy and Auger electron spectroscopy. We consider the distribution of the kinetic energy of the electrons formed as a result of the external photoelectric effect, and electrons leaves the atom with the relaxation of the initial state of its core-shell. We discuss the phenomena that determine the shape, the fine structure and the intensity of the spectral lines. Analyzed in detail the possibility of qualitative and quantitative analysis of the atomic composition, "false line", the chemical shifts of the lines of the core levels of atoms in different chemical environments. Analysis of these lines allows the chemical composition of the solid surface and near-surface region. Proper attention is paid to quantum-chemical methods of finding the energy levels of core states and density of states of the valence-electron levels and approaches developed to compare the experimentally obtained spectra of X-ray photoelectron and ultraviolet spectroscopy and Auger electron spectroscopy and theoretical calculations.
У статті описані фізичні принципи фотоелектронної рентгенівської та ультрафіолетової спектроскопії і спектроскопії Оже-електронів. Розглянуто розподіл по кінетичної енергії електронів, що утворюються в результаті зовнішнього фотоефекту, і електронів, які залишають атом при релаксації початкового стану його остовної оболонки. Обговорюються явища, що визначають форму, тонку структуру, а також інтенсивність спектральних ліній. Детально аналізуються можливості якісного та кількісного аналізу атомного складу, «помилкові лінії», хімічні зсуви ліній остовних рівнів атомів, що знаходяться в різному хімічному оточенні. Аналіз положення таких ліній дозволяє встановити хімічний склад поверхні твердого тіла і приповерхневої області. Належна увага приділена квантовохімічним методам знаходження енергії рівнів остівних станів і густини одноелектронних рівнів валентних станів, а також підходам, розвиненим для порівняння експериментально отриманих спектрів фотоелектронної рентгенівської та ультрафіолетової спектроскопії і спектроскопії Оже-електронів з теоретично розрахованими.
ru
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
Поверхность
Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
X-ray photoelectron spectroscopy and auger in research solid surface
Рентгенофотоелектронна і ОЖЕ-спектроскопія в дослідженнях поверхні твердого тіла
Article
published earlier
spellingShingle Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
Теребинская, М.И.
Ткачук, О.И.
Лобанов, В.В.
Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
title Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
title_alt X-ray photoelectron spectroscopy and auger in research solid surface
Рентгенофотоелектронна і ОЖЕ-спектроскопія в дослідженнях поверхні твердого тіла
title_full Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
title_fullStr Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
title_full_unstemmed Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
title_short Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
title_sort рентгенофотоэлектронная и оже-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
topic Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
topic_facet Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/148506
work_keys_str_mv AT terebinskaâmi rentgenofotoélektronnaâiožespektroskopiâvissledovaniâhpoverhnostitverdogotela
AT tkačukoi rentgenofotoélektronnaâiožespektroskopiâvissledovaniâhpoverhnostitverdogotela
AT lobanovvv rentgenofotoélektronnaâiožespektroskopiâvissledovaniâhpoverhnostitverdogotela
AT terebinskaâmi xrayphotoelectronspectroscopyandaugerinresearchsolidsurface
AT tkačukoi xrayphotoelectronspectroscopyandaugerinresearchsolidsurface
AT lobanovvv xrayphotoelectronspectroscopyandaugerinresearchsolidsurface
AT terebinskaâmi rentgenofotoelektronnaíožespektroskopíâvdoslídžennâhpoverhnítverdogotíla
AT tkačukoi rentgenofotoelektronnaíožespektroskopíâvdoslídžennâhpoverhnítverdogotíla
AT lobanovvv rentgenofotoelektronnaíožespektroskopíâvdoslídžennâhpoverhnítverdogotíla