Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl

• Datum: 2008
• Hauptverfasser: Савчук, А.В., Кочетова, С.А., Буряк, Н.И., Туманова, Н.Х.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України 2008
• Schlagworte: Электрохимия
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/14856
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl / А.В. Савчук, С.А. Кочетова, Н.И. Буряк, Н.Х.Туманова // Украинский химический журнал. — 2008. — Т. 74, № 3. — С. 31-33. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.

Исследовано электрохимическое поведение родия в низкотемпературном карбамид-хлоридном расплаве. Изучены механизм анодного растворения металла в расплавленном карбамиде, карбамид-хлоридном расплаве, карбамид-хлоридном расплаве, содержащем RhCl3. Установлены состав и структура комплексов родия (Rh(NH3)6^3–), образующихся в расплаве после анодного растворения. После электрохимического восстановления комплексов на платиновой поверхности образуется слой родия толщиной до 3 мкм с размером частиц от 10—20 нм, частично глобулированный.