Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl
Исследовано электрохимическое поведение родия в низкотемпературном карбамид-хлоридном расплаве. Изучены механизм анодного растворения металла в расплавленном карбамиде, карбамид-хлоридном расплаве, карбамид-хлоридном расплаве, содержащем RhCl3. Установлены состав и структура комплексов родия (Rh(NH3...
Saved in:
| Date: | 2008 |
|---|---|
| Main Authors: | , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України
2008
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/14856 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl / А.В. Савчук, С.А. Кочетова, Н.И. Буряк, Н.Х.Туманова // Украинский химический журнал. — 2008. — Т. 74, № 3. — С. 31-33. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862577456113778688 |
|---|---|
| author | Савчук, А.В. Кочетова, С.А. Буряк, Н.И. Туманова, Н.Х. |
| author_facet | Савчук, А.В. Кочетова, С.А. Буряк, Н.И. Туманова, Н.Х. |
| citation_txt | Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl / А.В. Савчук, С.А. Кочетова, Н.И. Буряк, Н.Х.Туманова // Украинский химический журнал. — 2008. — Т. 74, № 3. — С. 31-33. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| description | Исследовано электрохимическое поведение родия в низкотемпературном карбамид-хлоридном расплаве. Изучены механизм анодного растворения металла в расплавленном карбамиде, карбамид-хлоридном расплаве, карбамид-хлоридном расплаве, содержащем RhCl3. Установлены состав и структура комплексов родия (Rh(NH3)6^3–), образующихся в расплаве после анодного растворения. После электрохимического восстановления комплексов на платиновой поверхности образуется слой родия толщиной до 3 мкм с размером частиц от 10—20 нм, частично глобулированный.
Досліджено електрохімічну поведінку родію в низькотемпературному розплаві карбамід— NH4Cl. Вивчено механізм анодного розчинення металу в розплавленому карбаміді, розплаві карбамід—NH4Cl та у розплаві карбамід—NH4Cl з домішкою RhCl3. Встановлено склад та структуру комплексів родію, які утворилися в розплаві (Rh(NH3)6^3–) після анодного розчинення. Після електрохімічного відновлення комплексів на платиновій поверхні утворюється нашарок родію товщиною до 3 мкм, з розміром часточок від 10—20 нм, частково глобулований.
The electrochemical behaviour of rhodium at low-temperature carbamide-chloride melt was investigated. The mechanism of anodic dissolution of Rh electrode has been studied in carbamide, carbamide-chloride and carbamide-chloride melts wich contain the salt of Rh (III). The composition and structure of complex ions formed after anodic dissolution (Rh(NH3)6^3–) have been studied. After electrochemical reduction of electroactive complexes, the layer of rhodium is formed on Pt surface, the thikness of layer is about 3 mkm, the size of particularesis nearly 10—20 nm, the rhodium deposition is partly global.
|
| first_indexed | 2025-11-26T16:39:07Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-14856 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 0041–6045 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-11-26T16:39:07Z |
| publishDate | 2008 |
| publisher | Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Савчук, А.В. Кочетова, С.А. Буряк, Н.И. Туманова, Н.Х. 2010-12-29T13:16:40Z 2010-12-29T13:16:40Z 2008 Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl / А.В. Савчук, С.А. Кочетова, Н.И. Буряк, Н.Х.Туманова // Украинский химический журнал. — 2008. — Т. 74, № 3. — С. 31-33. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. 0041–6045 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/14856 541.138+541.135.3 Исследовано электрохимическое поведение родия в низкотемпературном карбамид-хлоридном расплаве. Изучены механизм анодного растворения металла в расплавленном карбамиде, карбамид-хлоридном расплаве, карбамид-хлоридном расплаве, содержащем RhCl3. Установлены состав и структура комплексов родия (Rh(NH3)6^3–), образующихся в расплаве после анодного растворения. После электрохимического восстановления комплексов на платиновой поверхности образуется слой родия толщиной до 3 мкм с размером частиц от 10—20 нм, частично глобулированный. Досліджено електрохімічну поведінку родію в низькотемпературному розплаві карбамід— NH4Cl. Вивчено механізм анодного розчинення металу в розплавленому карбаміді, розплаві карбамід—NH4Cl та у розплаві карбамід—NH4Cl з домішкою RhCl3. Встановлено склад та структуру комплексів родію, які утворилися в розплаві (Rh(NH3)6^3–) після анодного розчинення. Після електрохімічного відновлення комплексів на платиновій поверхні утворюється нашарок родію товщиною до 3 мкм, з розміром часточок від 10—20 нм, частково глобулований. The electrochemical behaviour of rhodium at low-temperature carbamide-chloride melt was investigated. The mechanism of anodic dissolution of Rh electrode has been studied in carbamide, carbamide-chloride and carbamide-chloride melts wich contain the salt of Rh (III). The composition and structure of complex ions formed after anodic dissolution (Rh(NH3)6^3–) have been studied. After electrochemical reduction of electroactive complexes, the layer of rhodium is formed on Pt surface, the thikness of layer is about 3 mkm, the size of particularesis nearly 10—20 nm, the rhodium deposition is partly global. ru Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України Электрохимия Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl Article published earlier |
| spellingShingle | Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl Савчук, А.В. Кочетова, С.А. Буряк, Н.И. Туманова, Н.Х. Электрохимия |
| title | Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl |
| title_full | Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl |
| title_fullStr | Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl |
| title_full_unstemmed | Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl |
| title_short | Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl |
| title_sort | механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—nh4cl |
| topic | Электрохимия |
| topic_facet | Электрохимия |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/14856 |
| work_keys_str_mv | AT savčukav mehanizmikinetikarastvoreniâiosaždeniârodiâpriélektrolizerasplavakarbamidnh4cl AT kočetovasa mehanizmikinetikarastvoreniâiosaždeniârodiâpriélektrolizerasplavakarbamidnh4cl AT burâkni mehanizmikinetikarastvoreniâiosaždeniârodiâpriélektrolizerasplavakarbamidnh4cl AT tumanovanh mehanizmikinetikarastvoreniâiosaždeniârodiâpriélektrolizerasplavakarbamidnh4cl |