Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system
The design and characteristics of a new combined magnetron-ion-beam sputtering system are presented. The system allows coating deposition both by means of magnetron discharge, and by sputtering of complex composite targets by high-energy ion beam. Computer simulation and optimization of magnetic fie...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2018 |
| Main Authors: | , , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2018
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/149063 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system / S. Dudin, O. Tkachenko, A. Shchybria, S. Yakovin, A. Zykov, N. Yefymenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 263-266. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862751479898570752 |
|---|---|
| author | Dudin, S. Tkachenko, O. Shchybria, A. Yakovin, S. Zykov, A. Yefymenko, N. |
| author_facet | Dudin, S. Tkachenko, O. Shchybria, A. Yakovin, S. Zykov, A. Yefymenko, N. |
| citation_txt | Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system / S. Dudin, O. Tkachenko, A. Shchybria, S. Yakovin, A. Zykov, N. Yefymenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 263-266. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The design and characteristics of a new combined magnetron-ion-beam sputtering system are presented. The system allows coating deposition both by means of magnetron discharge, and by sputtering of complex composite targets by high-energy ion beam. Computer simulation and optimization of magnetic field topology on the system,
which is common for the magnetron discharge and the Hall-type ion source, have been carried out. The ignition
curves, current-voltage characteristics of the system, in dependence on gas type and pressure, magnitude and topology of magnetic field have been researched both for autonomous operation of the planar magnetron discharge and
ion source and for their combination. Spatial distributions of ion current are also presented.
Розроблено та досліджено характеристики нової комбінованої магнетронно-іонно-променевої розпорошувальної системи з питомими параметрами, які відповідають промисловому виробництву. Система дозволяє
наносити покриття як за допомогою магнетронного розряду, так і шляхом перерозпорошення складнокомпозиційних мішеней високоенергетичним іонним пучком. Досліджено криві запалювання, розрядні характеристики в залежності від типу та тиску робочого газу, величини та топології магнітного поля як при автономній, так і при сумісній роботі планарного магнетронного розряду та джерела іонів. Досліджені просторові розподіли потоків іонів.
Разработаны и исследованы характеристики новой комбинированной магнетронно-ионно-лучевой распылительной системы с удельными параметрами, отвечающими требованиям промышленного производства. Система позволяет наносить покрытия как с помощью магнетронного разряда, так и путем перераспыления сложнокомпозиционных мишеней высокоэнергетическим ионным пучком. Исследованы кривые
зажигания, разрядные характеристики в зависимости от типа и давления рабочего газа, величины и топологии магнитного поля как при автономной, так и при совместной работе планарного магнетронного разряда и
источника ионов. Исследованы пространственные характеристики потоков ионов.
|
| first_indexed | 2025-12-07T21:11:55Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-149063 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T21:11:55Z |
| publishDate | 2018 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Dudin, S. Tkachenko, O. Shchybria, A. Yakovin, S. Zykov, A. Yefymenko, N. 2019-02-19T15:03:38Z 2019-02-19T15:03:38Z 2018 Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system / S. Dudin, O. Tkachenko, A. Shchybria, S. Yakovin, A. Zykov, N. Yefymenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 263-266. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.-j, 81.15.-z https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/149063 The design and characteristics of a new combined magnetron-ion-beam sputtering system are presented. The system allows coating deposition both by means of magnetron discharge, and by sputtering of complex composite targets by high-energy ion beam. Computer simulation and optimization of magnetic field topology on the system,
 which is common for the magnetron discharge and the Hall-type ion source, have been carried out. The ignition
 curves, current-voltage characteristics of the system, in dependence on gas type and pressure, magnitude and topology of magnetic field have been researched both for autonomous operation of the planar magnetron discharge and
 ion source and for their combination. Spatial distributions of ion current are also presented. Розроблено та досліджено характеристики нової комбінованої магнетронно-іонно-променевої розпорошувальної системи з питомими параметрами, які відповідають промисловому виробництву. Система дозволяє
 наносити покриття як за допомогою магнетронного розряду, так і шляхом перерозпорошення складнокомпозиційних мішеней високоенергетичним іонним пучком. Досліджено криві запалювання, розрядні характеристики в залежності від типу та тиску робочого газу, величини та топології магнітного поля як при автономній, так і при сумісній роботі планарного магнетронного розряду та джерела іонів. Досліджені просторові розподіли потоків іонів. Разработаны и исследованы характеристики новой комбинированной магнетронно-ионно-лучевой распылительной системы с удельными параметрами, отвечающими требованиям промышленного производства. Система позволяет наносить покрытия как с помощью магнетронного разряда, так и путем перераспыления сложнокомпозиционных мишеней высокоэнергетическим ионным пучком. Исследованы кривые
 зажигания, разрядные характеристики в зависимости от типа и давления рабочего газа, величины и топологии магнитного поля как при автономной, так и при совместной работе планарного магнетронного разряда и
 источника ионов. Исследованы пространственные характеристики потоков ионов. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system Розробка та дослідження комбінованої магнетронно-іонно-променевої розпорошувальної системи Разработка и исследование комбинированной магнетронно-ионно-лучевой распылительной системы Article published earlier |
| spellingShingle | Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system Dudin, S. Tkachenko, O. Shchybria, A. Yakovin, S. Zykov, A. Yefymenko, N. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| title | Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system |
| title_alt | Розробка та дослідження комбінованої магнетронно-іонно-променевої розпорошувальної системи Разработка и исследование комбинированной магнетронно-ионно-лучевой распылительной системы |
| title_full | Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system |
| title_fullStr | Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system |
| title_full_unstemmed | Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system |
| title_short | Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system |
| title_sort | design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system |
| topic | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| topic_facet | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/149063 |
| work_keys_str_mv | AT dudins designandresearchofcombinedmagnetronionbeamsputteringsystem AT tkachenkoo designandresearchofcombinedmagnetronionbeamsputteringsystem AT shchybriaa designandresearchofcombinedmagnetronionbeamsputteringsystem AT yakovins designandresearchofcombinedmagnetronionbeamsputteringsystem AT zykova designandresearchofcombinedmagnetronionbeamsputteringsystem AT yefymenkon designandresearchofcombinedmagnetronionbeamsputteringsystem AT dudins rozrobkatadoslídžennâkombínovanoímagnetronnoíonnopromenevoírozporošuvalʹnoísistemi AT tkachenkoo rozrobkatadoslídžennâkombínovanoímagnetronnoíonnopromenevoírozporošuvalʹnoísistemi AT shchybriaa rozrobkatadoslídžennâkombínovanoímagnetronnoíonnopromenevoírozporošuvalʹnoísistemi AT yakovins rozrobkatadoslídžennâkombínovanoímagnetronnoíonnopromenevoírozporošuvalʹnoísistemi AT zykova rozrobkatadoslídžennâkombínovanoímagnetronnoíonnopromenevoírozporošuvalʹnoísistemi AT yefymenkon rozrobkatadoslídžennâkombínovanoímagnetronnoíonnopromenevoírozporošuvalʹnoísistemi AT dudins razrabotkaiissledovaniekombinirovannoimagnetronnoionnolučevoiraspylitelʹnoisistemy AT tkachenkoo razrabotkaiissledovaniekombinirovannoimagnetronnoionnolučevoiraspylitelʹnoisistemy AT shchybriaa razrabotkaiissledovaniekombinirovannoimagnetronnoionnolučevoiraspylitelʹnoisistemy AT yakovins razrabotkaiissledovaniekombinirovannoimagnetronnoionnolučevoiraspylitelʹnoisistemy AT zykova razrabotkaiissledovaniekombinirovannoimagnetronnoionnolučevoiraspylitelʹnoisistemy AT yefymenkon razrabotkaiissledovaniekombinirovannoimagnetronnoionnolučevoiraspylitelʹnoisistemy |