Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface
In this paper a computer simulation of depositing nanoparticles from rarefied plasma on a solid substrate, which
 is at a floating potential, is carried out. In our model, we used the equation of cold hydrodynamics for ions, the
 equilibrium distribution of Boltzmann for electrons, a...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2018 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2018
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/149064 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface / M.A. Bondar, O.Yu. Kravchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 267-269. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862553918081335296 |
|---|---|
| author | Bondar, M.A. Kravchenko, O.Yu. |
| author_facet | Bondar, M.A. Kravchenko, O.Yu. |
| citation_txt | Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface / M.A. Bondar, O.Yu. Kravchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 267-269. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | In this paper a computer simulation of depositing nanoparticles from rarefied plasma on a solid substrate, which
is at a floating potential, is carried out. In our model, we used the equation of cold hydrodynamics for ions, the
equilibrium distribution of Boltzmann for electrons, and the particle in cell method for modeling nanoparticles. Dust
particles are charged by electron and ion currents, which are described in accordance with the orbit-limited motion
approach. Calculations were performed for various radii of nanoparticles, their concentrations and directed
velocities in the unperturbed plasma. The results of the simulation show that, at a sufficiently large size of
nanoparticles in the area of the sheath, a dust cloud, whose position changes in time, is formed. This leads to the
formation of a minimum of the potential of the electric field and to the change in the structure of the sheath. The
modification of the sheath by nanoparticles results in reflection and oscillation of the particles, which causes not
stationary flow of nanoparticles onto the substrate.
Проводиться комп'ютерне моделювання осадження наночастинок з розрідженої плазми на тверду
підкладку, яка знаходиться при плаваючому потенціалі. У нашій моделі ми використовували рівняння
холодної гідродинаміки для іонів, рівноважний розподіл Больцмана для електронів та метод частинок у
комірках для моделювання пилової компоненти. Пилові частинки заряджаються електронним та іонним
струмами, які описуються в наближенні обмеженого орбітального руху. Розрахунки проводилися для різних
радіусів наночастинок, їх концентрацій та направлених швидкостей в незбуреній плазмі. Результати
моделювання показують, що при досить великих розмірах наночастинок в області приелектродного шару
утворюється згусток пилу, положення якого змінюється в часі. Це призводить до утворення мінімуму
потенціалу електричного поля і до зміни структури приелектродного шару. Модифікація приелектродного
шару наночастинками призводить до відбиття і коливань частинок, що спричиняє нестаціонарність їх
потоку на підкладку.
Проводится компьютерное моделирование осаждения наночастиц с разреженной плазмы на твердую
подложку, которая находится при плавающем потенциале. В нашей модели мы использовали уравнения
холодной гидродинамики для ионов, равновесное распределение Больцмана для электронов и метод частиц
в ячейках для моделирования пылевой компоненты. Пылевые частицы заряжаются электронным и ионным
токами, которые описываются в приближении ограниченного орбитального движения. Расчеты проводились
для различных радиусов наночастиц, их концентраций и направленных скоростей в невозмущенной плазме.
Результаты моделирования показывают, что при достаточно больших размерах наночастиц в области
приэлектродного слоя образуется сгусток пыли, положение которого изменяется во времени. Это приводит к
образованию минимума потенциала электрического поля и к изменению структуры приэлектродного слоя.
Модификация приэлектродного слоя наночастицами приводит к отражению и колебаниям частиц, влечет за
собой нестационарность их потока на подложку.
|
| first_indexed | 2025-11-25T21:22:45Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-149064 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-11-25T21:22:45Z |
| publishDate | 2018 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Bondar, M.A. Kravchenko, O.Yu. 2019-02-19T15:04:03Z 2019-02-19T15:04:03Z 2018 Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface / M.A. Bondar, O.Yu. Kravchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 267-269. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.27.Lw https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/149064 In this paper a computer simulation of depositing nanoparticles from rarefied plasma on a solid substrate, which
 is at a floating potential, is carried out. In our model, we used the equation of cold hydrodynamics for ions, the
 equilibrium distribution of Boltzmann for electrons, and the particle in cell method for modeling nanoparticles. Dust
 particles are charged by electron and ion currents, which are described in accordance with the orbit-limited motion
 approach. Calculations were performed for various radii of nanoparticles, their concentrations and directed
 velocities in the unperturbed plasma. The results of the simulation show that, at a sufficiently large size of
 nanoparticles in the area of the sheath, a dust cloud, whose position changes in time, is formed. This leads to the
 formation of a minimum of the potential of the electric field and to the change in the structure of the sheath. The
 modification of the sheath by nanoparticles results in reflection and oscillation of the particles, which causes not
 stationary flow of nanoparticles onto the substrate. Проводиться комп'ютерне моделювання осадження наночастинок з розрідженої плазми на тверду
 підкладку, яка знаходиться при плаваючому потенціалі. У нашій моделі ми використовували рівняння
 холодної гідродинаміки для іонів, рівноважний розподіл Больцмана для електронів та метод частинок у
 комірках для моделювання пилової компоненти. Пилові частинки заряджаються електронним та іонним
 струмами, які описуються в наближенні обмеженого орбітального руху. Розрахунки проводилися для різних
 радіусів наночастинок, їх концентрацій та направлених швидкостей в незбуреній плазмі. Результати
 моделювання показують, що при досить великих розмірах наночастинок в області приелектродного шару
 утворюється згусток пилу, положення якого змінюється в часі. Це призводить до утворення мінімуму
 потенціалу електричного поля і до зміни структури приелектродного шару. Модифікація приелектродного
 шару наночастинками призводить до відбиття і коливань частинок, що спричиняє нестаціонарність їх
 потоку на підкладку. Проводится компьютерное моделирование осаждения наночастиц с разреженной плазмы на твердую
 подложку, которая находится при плавающем потенциале. В нашей модели мы использовали уравнения
 холодной гидродинамики для ионов, равновесное распределение Больцмана для электронов и метод частиц
 в ячейках для моделирования пылевой компоненты. Пылевые частицы заряжаются электронным и ионным
 токами, которые описываются в приближении ограниченного орбитального движения. Расчеты проводились
 для различных радиусов наночастиц, их концентраций и направленных скоростей в невозмущенной плазме.
 Результаты моделирования показывают, что при достаточно больших размерах наночастиц в области
 приэлектродного слоя образуется сгусток пыли, положение которого изменяется во времени. Это приводит к
 образованию минимума потенциала электрического поля и к изменению структуры приэлектродного слоя.
 Модификация приэлектродного слоя наночастицами приводит к отражению и колебаниям частиц, влечет за
 собой нестационарность их потока на подложку. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface Моделювання осадження наночастинок з плазми на тверду поверхню Моделирование осаждения наночастиц из плазмы на твердую поверхность Article published earlier |
| spellingShingle | Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface Bondar, M.A. Kravchenko, O.Yu. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| title | Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface |
| title_alt | Моделювання осадження наночастинок з плазми на тверду поверхню Моделирование осаждения наночастиц из плазмы на твердую поверхность |
| title_full | Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface |
| title_fullStr | Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface |
| title_full_unstemmed | Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface |
| title_short | Simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface |
| title_sort | simulation of nanoparticle deposition from plasmas on solid surface |
| topic | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| topic_facet | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/149064 |
| work_keys_str_mv | AT bondarma simulationofnanoparticledepositionfromplasmasonsolidsurface AT kravchenkooyu simulationofnanoparticledepositionfromplasmasonsolidsurface AT bondarma modelûvannâosadžennânanočastinokzplazminatverdupoverhnû AT kravchenkooyu modelûvannâosadžennânanočastinokzplazminatverdupoverhnû AT bondarma modelirovanieosaždeniânanočasticizplazmynatverduûpoverhnostʹ AT kravchenkooyu modelirovanieosaždeniânanočasticizplazmynatverduûpoverhnostʹ |