X-ray radiation during pulsed laser treatment of opal matrices

• Published in: Технология и конструирование в электронной аппаратуре
• Date: 2018
• Main Authors: Belyanin, A.F., Borisov, V.V., Popov, V.V.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2018
• Subjects: Электронные средства: исследования, разработки
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/150283
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: X-ray radiation during pulsed laser treatment of opal matrices / A.F. Belyanin, V.V. Borisov, V.V. Popov // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2018. — № 5-6. — С. 10-16. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

The paper presents the structure and preparation conditions of opal matrices (ordered 3D-lattice packing of X-ray amorphous SiO2 spheres with a diameter of ≈250 nm), as well as experimental data on nonlinear optical effects in opal matrices with pulsed laser excitation at wavelengths: 1040 nm, 510 nm in conjunction with 578 nm, and 366 nm. The authors investigate the energy spectra of X-ray radiation induced in the samples by laser irradiation. В настоящей работе представлены результаты исследования с помощью рентгеновского спектрометра энергетических спектров рентгеновского излучения, индуцированного воздействием на опаловые матрицы импульсного лазерного излучения с различной длиной волны λ: 1040 нм (ИК-область спектра), 510 и 578 нм (совмещенные моды) и 366 нм (УФ-область). У даній роботі представлено результати вимірювання за допомогою рентгенівського спектрометра енергетичних спектрів рентгенівського випромінювання, індукованого впливом на ОМ імпульсного лазерного випромінювання з різною довжиною хвилі λ: 1040 нм (ІЧ-область спектра), 510 та 578 нм (суміщенні моди), 366 нм (УФ-область).