Плазмонна спектроскопія поверхні плівок перехідних металів після низькоенергетичного йонного впливу
Вперше плазмонну спектроскопію застосовано для аналізи поверхні нанорозмірних плівок перехідних металів. Досліджувалися моно- та багатошарові системи, одержані електронно-променевою методою осадження в надвисокому вакуумі у 10⁻⁷ Па. Впервые плазмонная спектроскопия применена для анализа поверхности...
Saved in:
| Published in: | Металлофизика и новейшие технологии |
|---|---|
| Date: | 2018 |
| Main Authors: | , , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Ukrainian |
| Published: |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
2018
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/151335 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Плазмонна спектроскопія поверхні плівок перехідних металів після низькоенергетичного йонного впливу / М.О. Васильєв, В.М. Колесник, С.І. Сидоренко, С.М. Волошко, В.В. Янчук, А.К. Орлов // Металлофизика и новейшие технологии. — 2018. — Т. 40, № 7. — С. 919-930. — Бібліогр.: 14 назв. — укр. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Summary: | Вперше плазмонну спектроскопію застосовано для аналізи поверхні нанорозмірних плівок перехідних металів. Досліджувалися моно- та багатошарові системи, одержані електронно-променевою методою осадження в надвисокому вакуумі у 10⁻⁷ Па.
Впервые плазмонная спектроскопия применена для анализа поверхности наноразмерных плёнок переходных металлов. Исследовались моно- и многослойные системы, полученные электронно-лучевым методом осаждения в сверхвысоком вакууме 10⁻⁷ Па.
Plasmon spectroscopy is first used to analyse the nanoscale-films’ surface of the transition metals. A detailed analysis of the plasmon energy loss spectra of primary electrons in the 50–600 eV range is carried out for surface layers of the nanoscale multilayer thin-film Ni(25 nm)/Cu(25 nm)/Cr(25 nm)/Si(001), Ni(25 nm)/Cu(25 nm)/V(25 nm)/Si(001) and V(25 nm)/Si(001) systems bombarded with low-energy Ar+ ions and then held in a pure oxygen atmosphere. The mono- and multilayer systems obtained by the electron-beam deposition method in an ultrahigh vacuum of 10⁻⁷ Pa are investigated.
|
|---|---|
| ISSN: | 1024-1809 |