Кінетика дисперґування при відпалі у вакуумі молібденових наноплівок, нанесених на оксидні матеріяли - Найдіч, Ю.В.; Габ, І.І.; Стецюк, Т.В.; Костюк, Б.Д.; Шахнін, Д.Б. (Металлофизика и новейшие технологии, 2018)
Досліджено кінетику дисперґування молібденових наноплівок завтовшки у 100 нм, яких було нанесено на підкладинки з лейкосапфіру, алюмооксидної кераміки, кварцового скла та відпалено у вакуумі за температур 1200–1600°C протягом різного часу (від 2 до 20 хв.) при кожному обраному значенні температури. Встановлено, що з молібденових плівок, нанесених на оксидні матеріяли, найбільш стійкою при відпалі є плівка на алюмооксидній кераміці, а найменш стійкою — пліавка на кварцовому склі, яка починає інтенсивно дисперґувати та взаємодіяти з поверхнею підкладинки вже за 1300°C. За результатами досліджень побудовано кінетичні криві дисперґування плівок в результаті відпалу. Исследована кинетика диспергирования молибденовых наноплёнок толщиной 100 нм, нанесённых на подложки из лейкосапфира, алюмооксидной керамики, кварцевого стекла и отожжённых в вакууме при температурах 1200–1600°C в течение различного времени (от 2 до 20 мин) при каждом выбранном значении температуры. Óстановлено, что из молибденовых плёнок, нанесённых на оксидные материалы, наиболее стойкой при отжиге является плёнка на алюмооксидной керамике, а наименее стойкой — плёнка на кварцевом стекле, которая начинает интенсивно диспергироваться и взаимодействовать с поверхностью подложки уже при 1300°C. По результатам исследований построены кинетические кривые диспергирования плёнок в результате отжига. The dispersion kinetics of molybdenum nanofilms of 100 nm thickness deposited on the leucosapphire, alumina ceramics or quartz glass substrates and annealed in vacuum at 1200–1600°C for different exposure times at each temperature in the interval of 2–20 min. As determined, the molybdenum film deposited on alumina ceramic is the most stable during annealing, and the least stable one is a film on quartz glass, which begins to intensively disperse and interact with the substrate surface above 1300°C. Based on the results of the investigations, the kinetic curves of films’ dispersion because of annealing are plotted.