Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2

Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда. Описано конструкція та особливості...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Date:2010
Main Authors: Марченко, Ю.А., Перун, Н.В., Сасса, И.В., Ванжа, А.Ф.
Format: Article
Language:Russian
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2010
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/15671
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 / Ю.А. Марченко, Н.В. Перун, И.В. Сасса, А.Ф. Ванжа // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 1. — С. 157-160. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862596024257740800
author Марченко, Ю.А.
Перун, Н.В.
Сасса, И.В.
Ванжа, А.Ф.
author_facet Марченко, Ю.А.
Перун, Н.В.
Сасса, И.В.
Ванжа, А.Ф.
citation_txt Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 / Ю.А. Марченко, Н.В. Перун, И.В. Сасса, А.Ф. Ванжа // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 1. — С. 157-160. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
collection DSpace DC
description Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда. Описано конструкція та особливості плазмового розряду джерела іонів з катодом, що підігрівається, який призначено для використання на технологічній установці іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2. Приведені залежності струму пучка від параметрів розряду. Construction and structural features of plasma discharge of ions source with heated cathode is described. This source intended is used in technological plant ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings. Dependences of beam current on the discharge parameters are presented.
first_indexed 2025-11-27T14:31:00Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-15671
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language Russian
last_indexed 2025-11-27T14:31:00Z
publishDate 2010
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Марченко, Ю.А.
Перун, Н.В.
Сасса, И.В.
Ванжа, А.Ф.
2011-01-31T12:06:17Z
2011-01-31T12:06:17Z
2010
Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 / Ю.А. Марченко, Н.В. Перун, И.В. Сасса, А.Ф. Ванжа // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 1. — С. 157-160. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/15671
621.384.6:620.198
Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда.
Описано конструкція та особливості плазмового розряду джерела іонів з катодом, що підігрівається, який призначено для використання на технологічній установці іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2. Приведені залежності струму пучка від параметрів розряду.
Construction and structural features of plasma discharge of ions source with heated cathode is described. This source intended is used in technological plant ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings. Dependences of beam current on the discharge parameters are presented.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Диагностика и методы исследований
Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2
Джерело іонів для установки іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2
Ions source for plan ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings
Article
published earlier
spellingShingle Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2
Марченко, Ю.А.
Перун, Н.В.
Сасса, И.В.
Ванжа, А.Ф.
Диагностика и методы исследований
title Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2
title_alt Джерело іонів для установки іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2
Ions source for plan ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings
title_full Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2
title_fullStr Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2
title_full_unstemmed Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2
title_short Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2
title_sort источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий арго-2
topic Диагностика и методы исследований
topic_facet Диагностика и методы исследований
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/15671
work_keys_str_mv AT marčenkoûa istočnikionovdlâustanovkiionnostimulirovannogoosaždeniâpokrytiiargo2
AT perunnv istočnikionovdlâustanovkiionnostimulirovannogoosaždeniâpokrytiiargo2
AT sassaiv istočnikionovdlâustanovkiionnostimulirovannogoosaždeniâpokrytiiargo2
AT vanžaaf istočnikionovdlâustanovkiionnostimulirovannogoosaždeniâpokrytiiargo2
AT marčenkoûa džereloíonívdlâustanovkiíonnostimulûûčogoosadžennâpokrittívargo2
AT perunnv džereloíonívdlâustanovkiíonnostimulûûčogoosadžennâpokrittívargo2
AT sassaiv džereloíonívdlâustanovkiíonnostimulûûčogoosadžennâpokrittívargo2
AT vanžaaf džereloíonívdlâustanovkiíonnostimulûûčogoosadžennâpokrittívargo2
AT marčenkoûa ionssourceforplanargo2fortheionstimulateddepositionofcoatings
AT perunnv ionssourceforplanargo2fortheionstimulateddepositionofcoatings
AT sassaiv ionssourceforplanargo2fortheionstimulateddepositionofcoatings
AT vanžaaf ionssourceforplanargo2fortheionstimulateddepositionofcoatings