Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 - Марченко, Ю.А.; Перун, Н.В.; Сасса, И.В.; Ванжа, А.Ф. (Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2010)
Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда. Описано конструкція та особливості плазмового розряду джерела іонів з катодом, що підігрівається, який призначено для використання на технологічній установці іонно-стимулюючого осадження покриттів АРГО-2. Приведені залежності струму пучка від параметрів розряду. Construction and structural features of plasma discharge of ions source with heated cathode is described. This source intended is used in technological plant ARGO-2 for the ion-stimulated deposition of coatings. Dependences of beam current on the discharge parameters are presented.