Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне

Определены требования к источнику электронов для создания и нагрева многокомпонентной сепарационной плазмы. Предложены различные варианты катодов с большой эмитирующей поверхностью. Расчетным путем определены параметрические зависимости показателя поперечной энергии электронного пучка, инжектируемог...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2010
Hauptverfasser: Скибенко, Е.И., Ковтун, Ю.В., Егоров, А.М., Юферов, В.Б.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2010
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/15717
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне / Е.И. Скибенко, Ю.В. Ковтун, А.М. Егоров, В.Б. Юферов // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 2. — С. 186-189. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862710361887604736
author Скибенко, Е.И.
Ковтун, Ю.В.
Егоров, А.М.
Юферов, В.Б.
author_facet Скибенко, Е.И.
Ковтун, Ю.В.
Егоров, А.М.
Юферов, В.Б.
citation_txt Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне / Е.И. Скибенко, Ю.В. Ковтун, А.М. Егоров, В.Б. Юферов // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 2. — С. 186-189. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
collection DSpace DC
description Определены требования к источнику электронов для создания и нагрева многокомпонентной сепарационной плазмы. Предложены различные варианты катодов с большой эмитирующей поверхностью. Расчетным путем определены параметрические зависимости показателя поперечной энергии электронного пучка, инжектируемого в продольное магнитное поле. Визначено вимоги до джерела електронів для створення і нагрівання багатокомпонентної сепараційної плазми. Запропоновано різні варіанти катодів з великою емітуючою поверхнею. Розрахунковим шляхом визначено параметричні залежності показника поперечної енергії електронного пучка, що інжектується в поздовжне магнітне поле. Requirements on the electron source for creating and heating a multicomponent separation plasma have been elaborated. Different variants of cathodes with a large emitting surface are proposed. Calculations have been made to determine parametric dependences of the transverse energy index of the electron beam injected into a longitudinal magnetic field.
first_indexed 2025-12-07T17:23:36Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-15717
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language Russian
last_indexed 2025-12-07T17:23:36Z
publishDate 2010
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Скибенко, Е.И.
Ковтун, Ю.В.
Егоров, А.М.
Юферов, В.Б.
2011-01-31T16:47:53Z
2011-01-31T16:47:53Z
2010
Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне / Е.И. Скибенко, Ю.В. Ковтун, А.М. Егоров, В.Б. Юферов // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 2. — С. 186-189. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/15717
537.533.9
Определены требования к источнику электронов для создания и нагрева многокомпонентной сепарационной плазмы. Предложены различные варианты катодов с большой эмитирующей поверхностью. Расчетным путем определены параметрические зависимости показателя поперечной энергии электронного пучка, инжектируемого в продольное магнитное поле.
Визначено вимоги до джерела електронів для створення і нагрівання багатокомпонентної сепараційної плазми. Запропоновано різні варіанти катодів з великою емітуючою поверхнею. Розрахунковим шляхом визначено параметричні залежності показника поперечної енергії електронного пучка, що інжектується в поздовжне магнітне поле.
Requirements on the electron source for creating and heating a multicomponent separation plasma have been elaborated. Different variants of cathodes with a large emitting surface are proposed. Calculations have been made to determine parametric dependences of the transverse energy index of the electron beam injected into a longitudinal magnetic field.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Применение ускорителей
Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне
Використання електронних пучків для реалізації сепараційних технологій на іонно-атомному рівні
The use of electron beams for realizing separation technologies at the ion-atomic level
Article
published earlier
spellingShingle Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне
Скибенко, Е.И.
Ковтун, Ю.В.
Егоров, А.М.
Юферов, В.Б.
Применение ускорителей
title Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне
title_alt Використання електронних пучків для реалізації сепараційних технологій на іонно-атомному рівні
The use of electron beams for realizing separation technologies at the ion-atomic level
title_full Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне
title_fullStr Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне
title_full_unstemmed Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне
title_short Использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне
title_sort использование электронных пучков для реализации сепарационных технологий на ионно-атомном уровне
topic Применение ускорителей
topic_facet Применение ускорителей
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/15717
work_keys_str_mv AT skibenkoei ispolʹzovanieélektronnyhpučkovdlârealizaciiseparacionnyhtehnologiinaionnoatomnomurovne
AT kovtunûv ispolʹzovanieélektronnyhpučkovdlârealizaciiseparacionnyhtehnologiinaionnoatomnomurovne
AT egorovam ispolʹzovanieélektronnyhpučkovdlârealizaciiseparacionnyhtehnologiinaionnoatomnomurovne
AT ûferovvb ispolʹzovanieélektronnyhpučkovdlârealizaciiseparacionnyhtehnologiinaionnoatomnomurovne
AT skibenkoei vikoristannâelektronnihpučkívdlârealízacííseparacíinihtehnologíinaíonnoatomnomurívní
AT kovtunûv vikoristannâelektronnihpučkívdlârealízacííseparacíinihtehnologíinaíonnoatomnomurívní
AT egorovam vikoristannâelektronnihpučkívdlârealízacííseparacíinihtehnologíinaíonnoatomnomurívní
AT ûferovvb vikoristannâelektronnihpučkívdlârealízacííseparacíinihtehnologíinaíonnoatomnomurívní
AT skibenkoei theuseofelectronbeamsforrealizingseparationtechnologiesattheionatomiclevel
AT kovtunûv theuseofelectronbeamsforrealizingseparationtechnologiesattheionatomiclevel
AT egorovam theuseofelectronbeamsforrealizingseparationtechnologiesattheionatomiclevel
AT ûferovvb theuseofelectronbeamsforrealizingseparationtechnologiesattheionatomiclevel