Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании
В результате исследований закономерностей механического полирования оптоэлектронных элементов из кристаллических материалов установлено, что параметры шероховатости обработанных поверхностей линейно возрастают при увеличении наиболее вероятных значений размеров и площади поверхности частиц шлама, об...
Saved in:
| Date: | 2018 |
|---|---|
| Main Author: | |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
2018
|
| Series: | Сверхтвердые материалы |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/160596 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании / Ю.Д. Филатов // Сверхтвердые материалы. — 2018. — № 1. — С. 68-76. — Бібліогр.: 32 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-160596 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| fulltext |
|
| spelling |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-1605962025-02-09T11:57:27Z Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании Surface roughness of optoelectronic components in mechanical polishing Филатов, Ю.Д. Исследование процессов обработки В результате исследований закономерностей механического полирования оптоэлектронных элементов из кристаллических материалов установлено, что параметры шероховатости обработанных поверхностей линейно возрастают при увеличении наиболее вероятных значений размеров и площади поверхности частиц шлама, объема элементарной ячейки и площади обрабатываемой грани кристалла. Показана обратно пропорциональная зависимость параметров шероховатости от энергии, которая затрачивается на образование частиц шлама. Относительная шероховатость обработанных поверхностей кристаллов карбида кремния, нитрида галлия, нитрида алюминия и сапфира характеризуется соотношением 0,68:0,67:0,63:1,00. В результаті дослідження закономірностей механічного полірування оптоелектронних елементів з кристалічних матеріалів установлено, що параметри шорсткості оброблених поверхонь лінійно зростають при збільшенні найбільш ймовірних значень розмірів та площі поверхні частинок шламу, об’єму елементарної комірки та площі обробленої грані кристалу. Показана обернено пропорційна залежність параметрів шорсткості від енергії, що витрачається на утворення частинок шламу. Відносна шорсткість оброблених поверхонь кристалів карбіду кремнію, нітриду галію, нітриду алюмінію та сапфіру характеризується співвідношенням 0,68:0,67:0,63:1,00. The investigation of the mechanism of mechanical polishing of optoelectronic components made of crystalline materials has demonstrated that the machined surface roughness parameters grow linearly with increasing most probable values of debris particle size and surface area, unit cell volume, and surface area of the crystal plane machined. The surface roughness parameters are shown to be inversely proportional to the energy spent for the debris particle formation. The relative surface roughness of the polished silicon carbide, gallium nitride, aluminum nitride, and sapphire workpieces is represented by the following ratio: 2018 Article Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании / Ю.Д. Филатов // Сверхтвердые материалы. — 2018. — № 1. — С. 68-76. — Бібліогр.: 32 назв. — рос. 0203-3119 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/160596 621.623 ru Сверхтвердые материалы application/pdf Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| topic |
Исследование процессов обработки Исследование процессов обработки |
| spellingShingle |
Исследование процессов обработки Исследование процессов обработки Филатов, Ю.Д. Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании Сверхтвердые материалы |
| description |
В результате исследований закономерностей механического полирования оптоэлектронных элементов из кристаллических материалов установлено, что параметры шероховатости обработанных поверхностей линейно возрастают при увеличении наиболее вероятных значений размеров и площади поверхности частиц шлама, объема элементарной ячейки и площади обрабатываемой грани кристалла. Показана обратно пропорциональная зависимость параметров шероховатости от энергии, которая затрачивается на образование частиц шлама. Относительная шероховатость обработанных поверхностей кристаллов карбида кремния, нитрида галлия, нитрида алюминия и сапфира характеризуется соотношением 0,68:0,67:0,63:1,00. |
| format |
Article |
| author |
Филатов, Ю.Д. |
| author_facet |
Филатов, Ю.Д. |
| author_sort |
Филатов, Ю.Д. |
| title |
Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании |
| title_short |
Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании |
| title_full |
Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании |
| title_fullStr |
Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании |
| title_full_unstemmed |
Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании |
| title_sort |
шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании |
| publisher |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України |
| publishDate |
2018 |
| topic_facet |
Исследование процессов обработки |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/160596 |
| citation_txt |
Шероховатость поверхностей оптоэлектронных элементов при механическом полировании / Ю.Д. Филатов // Сверхтвердые материалы. — 2018. — № 1. — С. 68-76. — Бібліогр.: 32 назв. — рос. |
| series |
Сверхтвердые материалы |
| work_keys_str_mv |
AT filatovûd šerohovatostʹpoverhnostejoptoélektronnyhélementovprimehaničeskompolirovanii AT filatovûd surfaceroughnessofoptoelectroniccomponentsinmechanicalpolishing |
| first_indexed |
2025-11-25T22:45:11Z |
| last_indexed |
2025-11-25T22:45:11Z |
| _version_ |
1849804153748979712 |