Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов

В результате анализа взаимодействия частиц шлама и износа полировального порошка показано, что рассеяние частиц происходит на углы 136,8°–173,2°, а эффективное дифференциальное сечение рассеяния составляет 0,4–1,8 Тб. Траектории движения частиц представляют собой кольца, расположенные у обрабатываем...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Сверхтвердые материалы
Date:2018
Main Author: Филатов, Ю.Д.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2018
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/167106
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов / Ю.Д. Филатов // Сверхтвердые материалы. — 2018. — № 4. — С. 71-81. — Бібліогр.: 18 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862635976190328832
author Филатов, Ю.Д.
author_facet Филатов, Ю.Д.
citation_txt Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов / Ю.Д. Филатов // Сверхтвердые материалы. — 2018. — № 4. — С. 71-81. — Бібліогр.: 18 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Сверхтвердые материалы
description В результате анализа взаимодействия частиц шлама и износа полировального порошка показано, что рассеяние частиц происходит на углы 136,8°–173,2°, а эффективное дифференциальное сечение рассеяния составляет 0,4–1,8 Тб. Траектории движения частиц представляют собой кольца, расположенные у обрабатываемой поверхности в зоне, толщина которой приблизительно равна среднему радиусу зерна полировального порошка. В результаті аналізу взаємодії частинок шламу та зносу полірувального порошку показано, що розсіювання частинок відбувається на кути 136,8°–173,2°, а ефективний диференційний переріз розсіювання складає 0,4–1,8 Тб. Траєкторії руху частинок являють собою кільця, розташовані поблизу оброблюваної поверхні у зоні, товщина якої приблизно дорівнює середньому радіусу зерна полірувального порошку. The analysis of interaction between debris particles and polishing powder wear particles has demonstrated that the scattering of particles occurs through angles of 136.8° to 173.2°, and the effective differential scattering cross-section is 0.4 to 1.8 Tb. The trajectories of particles are rings located near the the workpiece surface within a zone whose thickness approximates the mean grain radius of the polishing powder.
first_indexed 2025-11-30T19:30:32Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-167106
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 0203-3119
language Russian
last_indexed 2025-11-30T19:30:32Z
publishDate 2018
publisher Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
record_format dspace
spelling Филатов, Ю.Д.
2020-03-15T19:22:28Z
2020-03-15T19:22:28Z
2018
Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов / Ю.Д. Филатов // Сверхтвердые материалы. — 2018. — № 4. — С. 71-81. — Бібліогр.: 18 назв. — рос.
0203-3119
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/167106
621.923.7-492.2:621.38
В результате анализа взаимодействия частиц шлама и износа полировального порошка показано, что рассеяние частиц происходит на углы 136,8°–173,2°, а эффективное дифференциальное сечение рассеяния составляет 0,4–1,8 Тб. Траектории движения частиц представляют собой кольца, расположенные у обрабатываемой поверхности в зоне, толщина которой приблизительно равна среднему радиусу зерна полировального порошка.
В результаті аналізу взаємодії частинок шламу та зносу полірувального порошку показано, що розсіювання частинок відбувається на кути 136,8°–173,2°, а ефективний диференційний переріз розсіювання складає 0,4–1,8 Тб. Траєкторії руху частинок являють собою кільця, розташовані поблизу оброблюваної поверхні у зоні, товщина якої приблизно дорівнює середньому радіусу зерна полірувального порошку.
The analysis of interaction between debris particles and polishing powder wear particles has demonstrated that the scattering of particles occurs through angles of 136.8° to 173.2°, and the effective differential scattering cross-section is 0.4 to 1.8 Tb. The trajectories of particles are rings located near the the workpiece surface within a zone whose thickness approximates the mean grain radius of the polishing powder.
ru
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
Сверхтвердые материалы
Исследование процессов обработки
Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов
Article
published earlier
spellingShingle Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов
Филатов, Ю.Д.
Исследование процессов обработки
title Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов
title_full Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов
title_fullStr Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов
title_full_unstemmed Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов
title_short Взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов
title_sort взаимодействие частиц шлама с частицами износа полировального порошка при полировании оптоэлектронных элементов
topic Исследование процессов обработки
topic_facet Исследование процессов обработки
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/167106
work_keys_str_mv AT filatovûd vzaimodeistviečasticšlamasčasticamiiznosapolirovalʹnogoporoškapripolirovaniioptoélektronnyhélementov