Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni

• Veröffentlicht in: Металлофизика и новейшие технологии
• Datum: 2012
• Hauptverfasser: Сидоренко, С.І., Волошко, С.М., Міщук, О.О., Тинькова, А.А.
• Format: Artikel
• Sprache: Ukrainian
• Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2012
• Schlagworte: Металлические поверхности и плёнки
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/167704
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni / С.І. Сидоренко, С.М. Волошко, О.О. Міщук, А.А. Тинькова // Металлофизика и новейшие технологии. — 2012. — Т. 34, № 1. — С. 65-76. — Бібліогр.: 13 назв. — укр.

За даними мас-спектрометрії вторинних йонів, електронної Оже-спектроскопії, Рентґенової дифракції, оптичної та атомово-силової мікроскопії досліджено інтенсивність розвитку дифузійних процесів і зміни морфології поверхні в системі Au (120 нм)/Ni (70 нм) за умов відпалу за температури 200 °C впродовж 20 хв. у вакуумній камері за різних значень тиску залишкової атмосфери (10⁻³ Па і 10⁻⁶ Па) та в середовищі водню під тиском у 5∙10² Па. По данным масс-спектрометрии вторичных ионов, электронной ожеспектроскопии, рентгеновской дифракции, оптической и атомно-силовой микроскопии исследованы интенсивность развития диффузионных процессов и изменения морфологии поверхности в системе Au (120 нм)/Ni (70 нм) в условиях отжига при температуре 200°C на протяжении 20 мин. в вакуумной камере при различных значениях давления остаточной атмосферы (10⁻³ Па и 10⁻⁶ Па) и в среде водорода при давлении 5∙10² Па. Development of the interdiffusion processes and surface-morphology changes in Au (120 nm)/Ni (70 nm) system are studied during 20 min heating at 200°C in a vacuum with different residual atmosphere pressure (10⁻³ and 10⁻⁶ Pa) and in the ambient of hydrogen at pressure of 5∙10² Pa according to the data of the secondary ion mass-spectrometry (SIMS), Auger electron spectroscopy (AES), x-ray diffraction, optical and atomic force microscopy.