Структурно-фазовые превращения в наноразмерной системе Cu/Cr при термическом и ионном воздействиях

• Опубліковано в: : Металлофизика и новейшие технологии
• Дата: 2019
• Автори: Круглов, И.А., Котенко, И.Е., Грищенко, В.А., Сидоренко, С.И., Волошко, С.М.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2019
• Теми: Phase transformations
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/167739
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Структурно-фазовые превращения в наноразмерной системе Cu/Cr при термическом и ионном воздействиях / И.А. Круглов, И.Е. Котенко, В.А. Грищенко, С.И. Сидоренко, С.М. Волошко // Metallophysics and Advanced Technologies. — 2019. — Т. 41, № 1. — С. 1-11. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.

Исследованы особенности формирования структуры и фазового состава системы Cu(25 нм)/Cr(25 нм) при отжиге в вакууме в широком температурном интервале. Зафиксировано развитие окислительно-восстановительных процессов, которые можно эффективно контролировать путём использования дополнительной ионно-плазменной обработки. Низкоэнергетическое ионное воздействие позволяет также стабилизировать нанокристаллическую структуру путём торможения процессов рекристаллизации и таким образом повысить термическую стабильность рабочих плёночных элементов микро- и наноэлектронных устройств. Досліджено особливості формування структури та фазового складу системи Cu(25 нм)/Cr(25 нм) при відпалі у вакуумі в широкому температурному інтервалі. Зафіксовано розвиток окиснювально-відновних процесів, які можна ефективно контролювати шляхом використання додаткового йонно-плазмового оброблення. Низькоенергетичний йонний вплив уможливлює також стабілізувати нанокристалічну структуру шляхом гальмування процесів рекристалізації і таким чином підвищити термічну стабільність робочих плівкових елементів мікро- та наноелектронних пристроїв. The features of the structure and phase composition formation in the Cu(25 nm)/Cr(25 nm) system during annealing in a vacuum over a wide temperature range are investigated. The development of redox processes, which can be effectively controlled by using additional ion-plasma treatment, is registered. The low-energy ion impact allows stabilizing the nanocrystalline structure by inhibiting the recrystallization processes and, thereby, to increase the thermal stability of the working film elements of micro- and nanoelectronic devices.