Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов

Разработана установка, позволяющая исследовать микропластичность алмазоподобных полупроводников. При температуре 300 K это достигается снятием кривых σ−ε или ε−t. В интервале 77–300 K зарождение дислокаций в приповерхностных слоях кристаллов можно регистрировать по изменениям электропроводности, вре...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Физика и техника высоких давлений
Дата:2004
Автори: Надточий, В.А., Нечволод, Н.К., Москаль, Д.С.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України 2004
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/168075
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов / В.А. Надточий, Н.К. Нечволод, Д.С. Москаль // Физика и техника высоких давлений. — 2004. — Т. 14, № 2. — С. 117-121. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-168075
record_format dspace
spelling Надточий, В.А.
Нечволод, Н.К.
Москаль, Д.С.
2020-04-20T19:11:38Z
2020-04-20T19:11:38Z
2004
Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов / В.А. Надточий, Н.К. Нечволод, Д.С. Москаль // Физика и техника высоких давлений. — 2004. — Т. 14, № 2. — С. 117-121. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
0868-5924
PACS: 81.40.Ef, 62.20.Fe
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/168075
Разработана установка, позволяющая исследовать микропластичность алмазоподобных полупроводников. При температуре 300 K это достигается снятием кривых σ−ε или ε−t. В интервале 77–300 K зарождение дислокаций в приповерхностных слоях кристаллов можно регистрировать по изменениям электропроводности, времени жизни носителей заряда в образцах или обратного тока полупроводниковых p–n-переходов.
An arrangement allowing to investigate microplasticity of diamond-like semiconductors was designed. At the temperature 300 K this is attained by taking off σ−ε or ε−t curves. In the interval 77–300 K, origin of dislocations in the single crystal subsurface layers can be registered according to changes of electric conductivity, charge carrier life-time in the samples or semiconductor p−n junction reverse current.
ru
Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України
Физика и техника высоких давлений
Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов
Arrangement for investigation of semiconductor single crystal microplasticity
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов
spellingShingle Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов
Надточий, В.А.
Нечволод, Н.К.
Москаль, Д.С.
title_short Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов
title_full Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов
title_fullStr Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов
title_full_unstemmed Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов
title_sort установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов
author Надточий, В.А.
Нечволод, Н.К.
Москаль, Д.С.
author_facet Надточий, В.А.
Нечволод, Н.К.
Москаль, Д.С.
publishDate 2004
language Russian
container_title Физика и техника высоких давлений
publisher Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України
format Article
title_alt Arrangement for investigation of semiconductor single crystal microplasticity
description Разработана установка, позволяющая исследовать микропластичность алмазоподобных полупроводников. При температуре 300 K это достигается снятием кривых σ−ε или ε−t. В интервале 77–300 K зарождение дислокаций в приповерхностных слоях кристаллов можно регистрировать по изменениям электропроводности, времени жизни носителей заряда в образцах или обратного тока полупроводниковых p–n-переходов. An arrangement allowing to investigate microplasticity of diamond-like semiconductors was designed. At the temperature 300 K this is attained by taking off σ−ε or ε−t curves. In the interval 77–300 K, origin of dislocations in the single crystal subsurface layers can be registered according to changes of electric conductivity, charge carrier life-time in the samples or semiconductor p−n junction reverse current.
issn 0868-5924
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/168075
citation_txt Установка для исследования микропластичности полупроводниковых кристаллов / В.А. Надточий, Н.К. Нечволод, Д.С. Москаль // Физика и техника высоких давлений. — 2004. — Т. 14, № 2. — С. 117-121. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT nadtočiiva ustanovkadlâissledovaniâmikroplastičnostipoluprovodnikovyhkristallov
AT nečvolodnk ustanovkadlâissledovaniâmikroplastičnostipoluprovodnikovyhkristallov
AT moskalʹds ustanovkadlâissledovaniâmikroplastičnostipoluprovodnikovyhkristallov
AT nadtočiiva arrangementforinvestigationofsemiconductorsinglecrystalmicroplasticity
AT nečvolodnk arrangementforinvestigationofsemiconductorsinglecrystalmicroplasticity
AT moskalʹds arrangementforinvestigationofsemiconductorsinglecrystalmicroplasticity
first_indexed 2025-12-07T19:30:35Z
last_indexed 2025-12-07T19:30:35Z
_version_ 1850879073906065408