Особенности методов контроля толщины тонких эпитаксиальных LSMO-пленок
Экспериментально изучены особенности контроля наноразмерной толщины пленок La₀.₇Sr₀.₃MnO₃ (LSMO) с помощью гравиметрического метода и SEM-изображений бокового скола пленки. Предложен косвенный метод контроля толщины пленок, основанный на анализе данных по относительному содержанию атомов в пленочных...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Физика и техника высоких давлений |
|---|---|
| Дата: | 2017 |
| Автори: | , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України
2017
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/168173 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Особенности методов контроля толщины тонких эпитаксиальных LSMO-пленок / Ю.М. Николаенко, В.В. Бурховецкий, А.С. Корнеевец, Н.Б. Эфрос, И.Ю. Решидова, А.А. Тихий, И.В. Жихарев, В.В. Фарапонов // Физика и техника высоких давлений. — 2017. — Т. 27, № 4. — С. 116-122. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Экспериментально изучены особенности контроля наноразмерной толщины пленок La₀.₇Sr₀.₃MnO₃ (LSMO) с помощью гравиметрического метода и SEM-изображений бокового скола пленки. Предложен косвенный метод контроля толщины пленок, основанный на анализе данных по относительному содержанию атомов в пленочных структурах, которое регистрируется энергодисперсионным спектрометром со стороны пленки. Для оценки малых толщин d < 100 nm теоретически рассмотрена возможность контроля толщины пленок по величине коэффициента пропускания оптического излучения с длиной волны 633 nm.
The features of measurement of nanoscale thickness of the La₀.₇Sr₀.₃MnO₃ (LSMO) films by the gravimetric method as well as with the help of the SEM images of film crosssection were investigated experimentally. We proposed a new indirect method of the film thickness control using analysis of the relative content of atoms in the film structure, which is registered by the energy dispersive spectrometer from the film side. For the estimation of small thickness d < 100 nm, we considered theoretically the possibility of the film thickness control the using values of transmission coefficient of optic radiation with the wavelength of 633 nm/
|
|---|---|
| ISSN: | 0868-5924 |