Неравновесные процессы на контакте полупроводник – плазма газового разряда

• Datum: 2018
• 1. Verfasser: Хайдаров, З.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2018
• Schriftenreihe: Журнал физики и инженерии поверхности
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/168194
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Неравновесные процессы на контакте полупроводник – плазма газового разряда / З. Хайдаров // Журнал фізики та інженерії поверхні. — 2018. — Т. 3, № 2. — С. 72-77. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Теоретически рассмотрены особенности плазменных контактов полупроводника в сверхтонкой газоразрядной ячейке, в частности рассмотрена кинетика нарастания потока носителей при включении прямоугольной ступени напряжения. Рассмотрен более сложный случай, когда последовательно со слоем фоточувствительног...