Progress in riboon ion beam implantation systems development
The ribbon ion sources for ion implantation are under developing in ITEP during last 5 years. The several versions of Bernas ion source are used for ribbon ion beam production. The beam transport for low energy ribbon beam is one of main problems for ion implantation. The progress in ion sources an...
Gespeichert in:
| Datum: | 2010 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2010
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/17041 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Progress in riboon ion beam implantation systems development / E.S. Masunov, S.M. Polozov, A.V. Kozlov, R.P. Kuibeda, T.V. Kulevoy, D.N. Seleznev // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 3. — С. 177-179. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |