Progress in riboon ion beam implantation systems development

• Datum: 2010
• Hauptverfasser: Masunov, E.S., Polozov, S.M., Kozlov, A.V., Kuibeda, R.P., Kulevoy, T.V., Seleznev, D.N.
• Format: Artikel
• Sprache: English
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2010
• Schlagworte: Применение ускорителей
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/17041
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Progress in riboon ion beam implantation systems development / E.S. Masunov, S.M. Polozov, A.V. Kozlov, R.P. Kuibeda, T.V. Kulevoy, D.N. Seleznev // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 3. — С. 177-179. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

The ribbon ion sources for ion implantation are under developing in ITEP during last 5 years. The several versions of Bernas ion source are used for ribbon ion beam production. The beam transport for low energy ribbon beam is one of main problems for ion implantation. The progress in ion sources an...