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Progress in riboon ion beam implantation systems development

The ribbon ion sources for ion implantation are under developing in ITEP during last 5 years. The several versions of Bernas ion source are used for ribbon ion beam production. The beam transport for low energy ribbon beam is one of main problems for ion implantation. The progress in ion sources an...

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2010
Hauptverfasser:	Masunov, E.S., Polozov, S.M., Kozlov, A.V., Kuibeda, R.P., Kulevoy, T.V., Seleznev, D.N.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2010
Schlagworte:	Применение ускорителей
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/17041
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Progress in riboon ion beam implantation systems development / E.S. Masunov, S.M. Polozov, A.V. Kozlov, R.P. Kuibeda, T.V. Kulevoy, D.N. Seleznev // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 3. — С. 177-179. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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