Kinetics of Ar2+, Ar2* and Ar* in volume barrier discharge in argon

• Date: 2010
• Main Authors: Tsiolko, V.V., Bazhenov, V.Yu., Dyachenko, L.V., Shchedrin, A.I., Kalyuzhnaya, A.G.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2010
• Subjects: Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/17336
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Kinetics of Ar2+, Ar2* and Ar* in volume barrier discharge in argon / V.V. Tsiolko, V.Yu. Bazhenov, L.V. Dyachenko, A.I. Shchedrin, A.G. Kalyuzhnaya // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 4. — С. 230-233. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

By means of computer simulation it is shown that Ar2+, Ar2* and Ar* species possess maximum concentration in volume barrier discharge in argon. Dependencies of concentrations of these species on the discharge parameters are obtained. Dependencies of characteristics of Ar2+ ion flows from the discharge plasma are determined experimentally. При помощи компьютерного моделирования показано, что наибольшую концентрацию в объемном барьерном разряде на аргоне имеют частицы Ar2+, Ar2* и Ar*. Найдены зависимости концентраций этих частиц от параметров разряда. Экспериментально установлены характеристики потоков ионов Ar2+ из плазмы разряда. За допомогою комп’ютерного моделювання показано, що найбільшу концентрацію в об’ємному бар’єрному розряді на аргоні мають частки Ar2+, Ar2* та Ar*. Знайдено залежності концентрацій цих часток від параметрів розряду. Експериментально встановлено характеристики потоків іонів Ar2+ з плазми розряду.