Key properties of mixed W-C-D surface related to tungsten erosion

The erosion of tungsten exposed to the mixed particle flux of carbon and deuterium ions is effected by several factors. The main factor is the formation of mixed W-C-D surface, which decreases content of tungsten atoms in the near-surface region. Other factors affect carbon content on the surface an...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2010
Автор: Bizyukov, I.A.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2010
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/17468
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Key properties of mixed W-C-D surface related to tungsten erosion / I.A. Bizyukov // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 6. — С. 91-93. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:The erosion of tungsten exposed to the mixed particle flux of carbon and deuterium ions is effected by several factors. The main factor is the formation of mixed W-C-D surface, which decreases content of tungsten atoms in the near-surface region. Other factors affect carbon content on the surface and attributed to elevated surface temperature: chemical erosion and radiation-enhanced sublimation. Распыление поверхности вольфрама, облучаемого смешанным потоком частиц углерода и дейтерия, находится под влиянием нескольких факторов. Основным фактором является формирование смешанной W-C-D поверхности, что уменьшает количество атомов вольфрама в приповерхностной области, откуда они распыляются. Другие факторы, такие как химическое распыление и радиационно-усиленная сублимация, влияют на концентрацию углерода на поверхности и связаны с ее повышенной температурой. Розпилення поверхні вольфраму, опромінюваної змішаним потоком частинок вуглецю й дейтерію, знаходиться під впливом кількох факторів. Основним фактором є формування змішаної W-C-D поверхні, що зменшує кількість атомів вольфраму у приповерхневій області, звідкіля вони розпилюються. Інші фактори, такі як хімічне розпилення та радіаційно-посилена сублімація, впливають на концентрацію вуглецю на поверхні і пов'язані з її підвищеною температурою.
ISSN:1562-6016