Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов
При низкотемпературных измерениях обнаружено сильное отклонение от экспоненциальной зависимо
 сти туннельного тока iT от расстояния между электродами s механически контролируемых изломных кон
 тактов в газообразном ³Не, ⁴Не или жидком ⁴Не для различных материалов (Ag, Al, Au, Pb, P...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Физика низких температур |
|---|---|
| Datum: | 1995 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
1995
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/174801 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов / О.И. Шкляревский, Р.Дж.П. Кейзерс, Ю. Фоетс, Г. ван Кемпен // Физика низких температур. — 1995. — Т. 21, № 10. — С. 1040-1048. — Бібліогр.: 27 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | При низкотемпературных измерениях обнаружено сильное отклонение от экспоненциальной зависимо
сти туннельного тока iT от расстояния между электродами s механически контролируемых изломных кон
тактов в газообразном ³Не, ⁴Не или жидком ⁴Не для различных материалов (Ag, Al, Au, Pb, Pt, Ptlr). 
Причиной наблюдаемого поведения lT(s) является понижение локальной плотности электронных состояний 
в металле при физической адсорбции гелия в результате поляризации электронов от уровня Ферми 1s- 
орбиталью Не, приводящей к замедлению роста туннельного тока при сближении свободного от адсорбата 
«острия» с «образцом». Дальнейшее уменьшение s сопровождается вытеснением гелия из пространства меж
ду электродами и резким возрастанием iT- в результате быстрого восстановления плотности электронных 
состояний. При понижении температуры до 1,2 К в ⁴Не наблюдались двухуровневые флуктуации туннельно
го сопротивления, обусловленные спонтанным переходом атома гелия между электродами, а также новый 
тип флуктуаций, связанный с поверхностной диффузией атомов гелия. Оба эффекта отсутствуют как в 
нормальной фазе ⁴Не, так и в ³Не. Обсуждаются возможные причины резкого увеличения подвижности 
атомов физически адсорбированного гелия с уменьшением температуры.
При низькотемпературних вимірюваннях виявлено сильне відхилення від експоненціальної залежності 
тунельного струму iT від відстані поміж электродами s в механічно контролюємих зламних контактах в 
газоподібному ³Не, ⁴Не або рідкому ⁴Не для різних матеріалів (Ag, Al, Au, Pb, Pt, Ptlr). Причиною спо
стереженої поведінки lT(s) є зниження локальної густини електронних станів в металі при фізичній адсорбції 
гелія внаслідок поляризації електронів від рівня Фермі 1s-орбіталлю Не, що приводить до сповільнення росту 
тунельного струму при наближенні вільного від адсорбата «вістря» із «зразком». Подальше зменшення s 
супроводжується витісненням гелію із простору поміж електродами і різким зростанням lT- внаслідок швидко
го відновлення густини електронних станів. При зниженні температури до 1,2 К в ⁴Не спостережено двох- 
рівневі флуктуації тунельного опору, обумовлені спонтанним переходом атома гелію поміж електродами, а 
також новий тип флуктуацій, пов’язаний з поверхневою дифузією атомів гелію. Обидва эфекти відсутні як в 
нормальній фазі ⁴Не, так і в ³Не. Обмірковуються можливі причини різкого збільшення рухливості атомів 
фізично адсорбованого гелію із зменшенням температури.
A strong deviation of tunnel current iT dependence
on the distance s between electrodes of mechanically 
controllable break junctions from the exponential one 
was observed at low temperature measurements in ⁴He, 
³He gas or liquid helium for various materials (Ag, Al, 
Au, Pb, Pt and Ptlr). The reason for observed behavior 
of lT(s) is decrease in the local density of states 
(LDOS) in the metal caused by physadsorbed helium 
due to polarizing of electrons away from the Fermi level 
by Is shell of lT(s) atom. It results in reduction of the 
tunnel current as the «bare» tip is brought close to the 
sample. The further decreasing of s is accompanied by 
expelling of helium from the tunneling space and steep 
rise of iT associated with restoration of LDOS. When 
measured at 1.2 K in ⁴He, two level fluctuations of the 
tunnel resistance due to a spontaneous transition of the 
atom between electrodes were observed as well as a new 
type of fluctuations caused by the surface diffusion of 
helium atoms. Both effects have been never seen in the 
normal phase of ⁴Не or ³Не. The possible reasons for 
the drastic increasing in physadsorbed atoms mobility at 
low T are discussed.
|
|---|---|
| ISSN: | 0132-6414 |