Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов
При низкотемпературных измерениях обнаружено сильное отклонение от экспоненциальной зависимо
 сти туннельного тока iT от расстояния между электродами s механически контролируемых изломных кон
 тактов в газообразном ³Не, ⁴Не или жидком ⁴Не для различных материалов (Ag, Al, Au, Pb, P...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Физика низких температур |
|---|---|
| Дата: | 1995 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
1995
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/174801 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов / О.И. Шкляревский, Р.Дж.П. Кейзерс, Ю. Фоетс, Г. ван Кемпен // Физика низких температур. — 1995. — Т. 21, № 10. — С. 1040-1048. — Бібліогр.: 27 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862747687048183808 |
|---|---|
| author | Шкляревский, О.И. Кейзерс, Р.Дж.П. Фоетс, Ю. ван Кемпен, Г. |
| author_facet | Шкляревский, О.И. Кейзерс, Р.Дж.П. Фоетс, Ю. ван Кемпен, Г. |
| citation_txt | Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов / О.И. Шкляревский, Р.Дж.П. Кейзерс, Ю. Фоетс, Г. ван Кемпен // Физика низких температур. — 1995. — Т. 21, № 10. — С. 1040-1048. — Бібліогр.: 27 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физика низких температур |
| description | При низкотемпературных измерениях обнаружено сильное отклонение от экспоненциальной зависимо
сти туннельного тока iT от расстояния между электродами s механически контролируемых изломных кон
тактов в газообразном ³Не, ⁴Не или жидком ⁴Не для различных материалов (Ag, Al, Au, Pb, Pt, Ptlr). 
Причиной наблюдаемого поведения lT(s) является понижение локальной плотности электронных состояний 
в металле при физической адсорбции гелия в результате поляризации электронов от уровня Ферми 1s- 
орбиталью Не, приводящей к замедлению роста туннельного тока при сближении свободного от адсорбата 
«острия» с «образцом». Дальнейшее уменьшение s сопровождается вытеснением гелия из пространства меж
ду электродами и резким возрастанием iT- в результате быстрого восстановления плотности электронных 
состояний. При понижении температуры до 1,2 К в ⁴Не наблюдались двухуровневые флуктуации туннельно
го сопротивления, обусловленные спонтанным переходом атома гелия между электродами, а также новый 
тип флуктуаций, связанный с поверхностной диффузией атомов гелия. Оба эффекта отсутствуют как в 
нормальной фазе ⁴Не, так и в ³Не. Обсуждаются возможные причины резкого увеличения подвижности 
атомов физически адсорбированного гелия с уменьшением температуры.
При низькотемпературних вимірюваннях виявлено сильне відхилення від експоненціальної залежності 
тунельного струму iT від відстані поміж электродами s в механічно контролюємих зламних контактах в 
газоподібному ³Не, ⁴Не або рідкому ⁴Не для різних матеріалів (Ag, Al, Au, Pb, Pt, Ptlr). Причиною спо
стереженої поведінки lT(s) є зниження локальної густини електронних станів в металі при фізичній адсорбції 
гелія внаслідок поляризації електронів від рівня Фермі 1s-орбіталлю Не, що приводить до сповільнення росту 
тунельного струму при наближенні вільного від адсорбата «вістря» із «зразком». Подальше зменшення s 
супроводжується витісненням гелію із простору поміж електродами і різким зростанням lT- внаслідок швидко
го відновлення густини електронних станів. При зниженні температури до 1,2 К в ⁴Не спостережено двох- 
рівневі флуктуації тунельного опору, обумовлені спонтанним переходом атома гелію поміж електродами, а 
також новий тип флуктуацій, пов’язаний з поверхневою дифузією атомів гелію. Обидва эфекти відсутні як в 
нормальній фазі ⁴Не, так і в ³Не. Обмірковуються можливі причини різкого збільшення рухливості атомів 
фізично адсорбованого гелію із зменшенням температури.
A strong deviation of tunnel current iT dependence
on the distance s between electrodes of mechanically 
controllable break junctions from the exponential one 
was observed at low temperature measurements in ⁴He, 
³He gas or liquid helium for various materials (Ag, Al, 
Au, Pb, Pt and Ptlr). The reason for observed behavior 
of lT(s) is decrease in the local density of states 
(LDOS) in the metal caused by physadsorbed helium 
due to polarizing of electrons away from the Fermi level 
by Is shell of lT(s) atom. It results in reduction of the 
tunnel current as the «bare» tip is brought close to the 
sample. The further decreasing of s is accompanied by 
expelling of helium from the tunneling space and steep 
rise of iT associated with restoration of LDOS. When 
measured at 1.2 K in ⁴He, two level fluctuations of the 
tunnel resistance due to a spontaneous transition of the 
atom between electrodes were observed as well as a new 
type of fluctuations caused by the surface diffusion of 
helium atoms. Both effects have been never seen in the 
normal phase of ⁴Не or ³Не. The possible reasons for 
the drastic increasing in physadsorbed atoms mobility at 
low T are discussed.
|
| first_indexed | 2025-12-07T20:52:10Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-174801 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 0132-6414 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T20:52:10Z |
| publishDate | 1995 |
| publisher | Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Шкляревский, О.И. Кейзерс, Р.Дж.П. Фоетс, Ю. ван Кемпен, Г. 2021-01-27T19:44:17Z 2021-01-27T19:44:17Z 1995 Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов / О.И. Шкляревский, Р.Дж.П. Кейзерс, Ю. Фоетс, Г. ван Кемпен // Физика низких температур. — 1995. — Т. 21, № 10. — С. 1040-1048. — Бібліогр.: 27 назв. — рос. 0132-6414 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/174801 538. 9 При низкотемпературных измерениях обнаружено сильное отклонение от экспоненциальной зависимо
 сти туннельного тока iT от расстояния между электродами s механически контролируемых изломных кон
 тактов в газообразном ³Не, ⁴Не или жидком ⁴Не для различных материалов (Ag, Al, Au, Pb, Pt, Ptlr). 
 Причиной наблюдаемого поведения lT(s) является понижение локальной плотности электронных состояний 
 в металле при физической адсорбции гелия в результате поляризации электронов от уровня Ферми 1s- 
 орбиталью Не, приводящей к замедлению роста туннельного тока при сближении свободного от адсорбата 
 «острия» с «образцом». Дальнейшее уменьшение s сопровождается вытеснением гелия из пространства меж
 ду электродами и резким возрастанием iT- в результате быстрого восстановления плотности электронных 
 состояний. При понижении температуры до 1,2 К в ⁴Не наблюдались двухуровневые флуктуации туннельно
 го сопротивления, обусловленные спонтанным переходом атома гелия между электродами, а также новый 
 тип флуктуаций, связанный с поверхностной диффузией атомов гелия. Оба эффекта отсутствуют как в 
 нормальной фазе ⁴Не, так и в ³Не. Обсуждаются возможные причины резкого увеличения подвижности 
 атомов физически адсорбированного гелия с уменьшением температуры. При низькотемпературних вимірюваннях виявлено сильне відхилення від експоненціальної залежності 
 тунельного струму iT від відстані поміж электродами s в механічно контролюємих зламних контактах в 
 газоподібному ³Не, ⁴Не або рідкому ⁴Не для різних матеріалів (Ag, Al, Au, Pb, Pt, Ptlr). Причиною спо
 стереженої поведінки lT(s) є зниження локальної густини електронних станів в металі при фізичній адсорбції 
 гелія внаслідок поляризації електронів від рівня Фермі 1s-орбіталлю Не, що приводить до сповільнення росту 
 тунельного струму при наближенні вільного від адсорбата «вістря» із «зразком». Подальше зменшення s 
 супроводжується витісненням гелію із простору поміж електродами і різким зростанням lT- внаслідок швидко
 го відновлення густини електронних станів. При зниженні температури до 1,2 К в ⁴Не спостережено двох- 
 рівневі флуктуації тунельного опору, обумовлені спонтанним переходом атома гелію поміж електродами, а 
 також новий тип флуктуацій, пов’язаний з поверхневою дифузією атомів гелію. Обидва эфекти відсутні як в 
 нормальній фазі ⁴Не, так і в ³Не. Обмірковуються можливі причини різкого збільшення рухливості атомів 
 фізично адсорбованого гелію із зменшенням температури. A strong deviation of tunnel current iT dependence
 on the distance s between electrodes of mechanically 
 controllable break junctions from the exponential one 
 was observed at low temperature measurements in ⁴He, 
 ³He gas or liquid helium for various materials (Ag, Al, 
 Au, Pb, Pt and Ptlr). The reason for observed behavior 
 of lT(s) is decrease in the local density of states 
 (LDOS) in the metal caused by physadsorbed helium 
 due to polarizing of electrons away from the Fermi level 
 by Is shell of lT(s) atom. It results in reduction of the 
 tunnel current as the «bare» tip is brought close to the 
 sample. The further decreasing of s is accompanied by 
 expelling of helium from the tunneling space and steep 
 rise of iT associated with restoration of LDOS. When 
 measured at 1.2 K in ⁴He, two level fluctuations of the 
 tunnel resistance due to a spontaneous transition of the 
 atom between electrodes were observed as well as a new 
 type of fluctuations caused by the surface diffusion of 
 helium atoms. Both effects have been never seen in the 
 normal phase of ⁴Не or ³Не. The possible reasons for 
 the drastic increasing in physadsorbed atoms mobility at 
 low T are discussed. Авторы выражают глубокую благодарность 
 И. К. Янсону и В. И. Соколову за плодотворные 
 обсуждения, Яну Гермсену (J. Hermsen) и Яну 
 Герритсену (J. Gerritsen) за неоценимую помощь в 
 проведении экспериментов. Один из нас (О. И. Ш.) 
 благодарен Nederlandse Organisatie voor Wetenschapelijk Onderzoek (NWO) и International Scientific 
 Foundation (ISF) за предоставление грантов, сде
 лавших возможным выполнение данной работы. ru Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України Физика низких температур Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов The influence of adsorbed helium on tunneling in mechanically controllable break junctions Article published earlier |
| spellingShingle | Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов Шкляревский, О.И. Кейзерс, Р.Дж.П. Фоетс, Ю. ван Кемпен, Г. |
| title | Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов |
| title_alt | The influence of adsorbed helium on tunneling in mechanically controllable break junctions |
| title_full | Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов |
| title_fullStr | Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов |
| title_full_unstemmed | Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов |
| title_short | Влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов |
| title_sort | влияние физической адсорбции гелия на туннельные характеристики механически контролируемых изломных контактов |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/174801 |
| work_keys_str_mv | AT šklârevskiioi vliâniefizičeskoiadsorbciigeliânatunnelʹnyeharakteristikimehaničeskikontroliruemyhizlomnyhkontaktov AT keizersrdžp vliâniefizičeskoiadsorbciigeliânatunnelʹnyeharakteristikimehaničeskikontroliruemyhizlomnyhkontaktov AT foetsû vliâniefizičeskoiadsorbciigeliânatunnelʹnyeharakteristikimehaničeskikontroliruemyhizlomnyhkontaktov AT vankempeng vliâniefizičeskoiadsorbciigeliânatunnelʹnyeharakteristikimehaničeskikontroliruemyhizlomnyhkontaktov AT šklârevskiioi theinfluenceofadsorbedheliumontunnelinginmechanicallycontrollablebreakjunctions AT keizersrdžp theinfluenceofadsorbedheliumontunnelinginmechanicallycontrollablebreakjunctions AT foetsû theinfluenceofadsorbedheliumontunnelinginmechanicallycontrollablebreakjunctions AT vankempeng theinfluenceofadsorbedheliumontunnelinginmechanicallycontrollablebreakjunctions |