Fedorovich, O., Kruglenko, M., & Polozov, B. (2010). About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Fedorovich, O.A, M.P Kruglenko, та B.P Polozov. About Influence of Energy of Electrons and Ions on Speed of Electron- and Ion-stimulated Plasmachemical Etching of Silicon. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2010.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Fedorovich, O.A, et al. About Influence of Energy of Electrons and Ions on Speed of Electron- and Ion-stimulated Plasmachemical Etching of Silicon. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2010.