Температурные зависимости порога параметрического возбуждения и параметра релаксации спиновых волн в гранатовых структурах
Обсуждаются результаты экспериментального исследования температурных зависимостей порога параметрического возбуждения и параметра релаксации спиновых волн (СВ) в монокристаллических пластинах и эпитаксиальных пленках железо-иттриевого граната (ЖИГ). Показано, что затухание СВ в эпитаксиальном слое Ж...
Gespeichert in:
| Datum: | 1996 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
1996
|
| Schriftenreihe: | Физика низких температур |
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/176292 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Температурные зависимости порога параметрического возбуждения и параметра релаксации спиновых волн в гранатовых структурах / В.В. Данилов, А.Ю. Нечипорук, Л.В. Чевнюк // Физика низких температур. — 1996. — Т. 22, № 9. — С. 1052-1055. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | Обсуждаются результаты экспериментального исследования температурных зависимостей порога параметрического возбуждения и параметра релаксации спиновых волн (СВ) в монокристаллических пластинах и эпитаксиальных пленках железо-иттриевого граната (ЖИГ). Показано, что затухание СВ в эпитаксиальном слое ЖИГ больше, чем в монокристаллической пластине, причем различие увеличивается с понижением температуры. Этот факт объясняется влиянием парамагнитной подложки и большим содержанием примесей растворителя и тигля, связанным с особенностями эпитаксиальной технологии. Исследования проводились при температурах 4,2-300 К в трехсантиметровом диапазоне длин волн. |
|---|