Влияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве

• Veröffentlicht in: Украинский химический журнал
• Datum: 1983
• Hauptverfasser: Шаповал, В.И., Чукреев, Н.Я., Полищук, В.А.
• Format: Artikel
• Sprache: Russisch
• Veröffentlicht: Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України 1983
• Schlagworte: Электрохимия
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/182813
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Влияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве / В.И.Шаповал, Н.Я. Чукреев, В.А. Полищук // Украинский химический журнал. — 1983. — Т. 49, № 8. — С. 841-845. — Бібліогр.: 12назв. — рос.

Необходимо было исследовать влияние степени окисления поверхностных слоев подложки на зародышеобразование кристаллов при электроосаждении бериллия. Повышенная склонность его хлорида к гидролизу и исключительная способность металла к сорбции примесей и образованию прочных поверхностных соединений явл...