Фоточувствительные олигомеры на основе флуоренилсодержащих диолов

• Published in: Украинский химический журнал
• Date: 2006
• Main Authors: Шолудченко, Л.И., Гетманчук, Ю.П.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України 2006
• Subjects: Химия высокомолекулярных соединений
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/185212
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Фоточувствительные олигомеры на основе флуоренилсодержащих диолов / Л.И. Шолудченко, Ю.П. Гетманчук // Украинский химический журнал. — 2006. — Т. 72, № 6. — С. 115-117. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Описан синтез новых мономеров — флуоренилсодержащих диолов. Неравновесной поликонденсацией с дихлорсиланами получены олигоорганосилоксаны. Изучены информационные свойства фототермопластических регистрирующих сред на основе синтезированных олигомеров. Описано синтез нових мономерів — флуоренілвмісних діолів. Нерівноважною поліконденсацією з дихлорсиланами одержано олігоорганосилоксани. Досліджено інформаційні властивості фототермопластичних реєструючих середовищ на основі синтезованих олігомерів. The synthesis of new monomers — fluorenylcontaining diols are described. The oligoorganosiloxanes are received by nonequilibrium polycondensation with dichlorsilanes. The information properties of photoplastic films from synthesized oligomers are investigated.