Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот
Исследован эффект влияния на процесс электроосаждения меди и цинка полифункциональных поверхностно-активных органических веществ — акриламида, винной и аспаргиновой кислот. Показано, что в присутствии акриламида разряд ионов металла осложнен протекающей в объеме раствора предшествующей химической ре...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Украинский химический журнал |
|---|---|
| Datum: | 2006 |
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України
2006
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/185552 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот / В.С. Иванко, В.Ф. Варгалюк, Е.В. Ефименко // Украинский химический журнал. — 2006. — Т. 72, № 10. — С. 103-107. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-185552 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Иванко, В.С. Варгалюк, В.Ф. Ефименко, Е.В. 2022-09-27T15:33:58Z 2022-09-27T15:33:58Z 2006 Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот / В.С. Иванко, В.Ф. Варгалюк, Е.В. Ефименко // Украинский химический журнал. — 2006. — Т. 72, № 10. — С. 103-107. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. 0041–6045 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/185552 541.138.3 Исследован эффект влияния на процесс электроосаждения меди и цинка полифункциональных поверхностно-активных органических веществ — акриламида, винной и аспаргиновой кислот. Показано, что в присутствии акриламида разряд ионов металла осложнен протекающей в объеме раствора предшествующей химической реакцией диссоциации монолигандного комплекса CuL²⁺. В присутствии же винной и аспаргиновой кислот механизм электродного процесса cводится к разряду адсорбированных комплексов CuL²⁺. При электроосаждении цинка реализуется каталитическая реакция, включающая стадию образования поверхностного электроактивного комплекса ZnL²⁺ за счет взаимодействия ионов Zn²⁺ с адсорбированной добавкой. Хронопотенціометричним та потенціодинамічним методами досліджено механізм електроосадження міді та цинку в присутності акриламіду, винної та аспаргінової кислот. Показано, що при розряді йонів цинку виникають кінетичні обмеження швидкості електродного процесу в присутності всіх органічних сполук. Електровідновлення йонів міді ускладнено попередньою хімічною реакцією лише в присутності акриламіду, а в присутності винної та аспаргінової кислот кінетика електродного процесу визначається адсорбційною активністю добавок та стійкістю їх комплексів з Cu²⁺. The mechanism of copper and zinc electrodeposition in the presence of acrylamide, tartar and asparaginic acids has been investigated by chronopotentiometric and potentiodynamic methods. It is shown that kinetic limitation of rate of the electrоde process arises during zinc ions discharge in the presence of the all organic substances. Copper electroreduction is complicated by preceding chemical reaction only in the presence of acrylamide. In the presence of tartar and asparaginic acids the kinetic of electrode process is determined by adsorption activity of the additives and stability of their complexes with Cu²⁺. ru Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України Украинский химический журнал Электрохимия Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот Кінетика і механізм електроосадження міді та цинку в присутності добавок поліфункціональних органічних кислот Kinetic and mechanism of copper and zinc electrodeposition in the presence of additives of multifunctional organic acids Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот |
| spellingShingle |
Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот Иванко, В.С. Варгалюк, В.Ф. Ефименко, Е.В. Электрохимия |
| title_short |
Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот |
| title_full |
Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот |
| title_fullStr |
Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот |
| title_full_unstemmed |
Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот |
| title_sort |
кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот |
| author |
Иванко, В.С. Варгалюк, В.Ф. Ефименко, Е.В. |
| author_facet |
Иванко, В.С. Варгалюк, В.Ф. Ефименко, Е.В. |
| topic |
Электрохимия |
| topic_facet |
Электрохимия |
| publishDate |
2006 |
| language |
Russian |
| container_title |
Украинский химический журнал |
| publisher |
Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Кінетика і механізм електроосадження міді та цинку в присутності добавок поліфункціональних органічних кислот Kinetic and mechanism of copper and zinc electrodeposition in the presence of additives of multifunctional organic acids |
| description |
Исследован эффект влияния на процесс электроосаждения меди и цинка полифункциональных поверхностно-активных органических веществ — акриламида, винной и аспаргиновой кислот. Показано, что в присутствии акриламида разряд ионов металла осложнен протекающей в объеме раствора предшествующей химической реакцией диссоциации монолигандного комплекса CuL²⁺. В присутствии же винной и аспаргиновой кислот механизм электродного процесса cводится к разряду адсорбированных комплексов CuL²⁺. При электроосаждении цинка реализуется каталитическая реакция, включающая стадию образования поверхностного электроактивного комплекса ZnL²⁺ за счет взаимодействия ионов Zn²⁺ с адсорбированной добавкой.
Хронопотенціометричним та потенціодинамічним методами досліджено механізм електроосадження міді та цинку в присутності акриламіду, винної та аспаргінової кислот. Показано, що при розряді йонів цинку виникають кінетичні обмеження швидкості електродного процесу в присутності всіх органічних сполук. Електровідновлення йонів міді ускладнено попередньою хімічною реакцією лише в присутності акриламіду, а в присутності винної та аспаргінової кислот кінетика електродного процесу визначається адсорбційною активністю добавок та стійкістю їх комплексів з Cu²⁺.
The mechanism of copper and zinc electrodeposition in the presence of acrylamide, tartar and asparaginic acids has been investigated by chronopotentiometric and potentiodynamic methods. It is shown that kinetic limitation of rate of the electrоde process arises during zinc ions discharge in the presence of the all organic substances. Copper electroreduction is complicated by preceding chemical reaction only in the presence of acrylamide. In the presence of tartar and asparaginic acids the kinetic of electrode process is determined by adsorption activity of the additives and stability of their complexes with Cu²⁺.
|
| issn |
0041–6045 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/185552 |
| citation_txt |
Кинетика и механизм электроосаждения меди и цинка в присутствии добавок полифункциональных органических кислот / В.С. Иванко, В.Ф. Варгалюк, Е.В. Ефименко // Украинский химический журнал. — 2006. — Т. 72, № 10. — С. 103-107. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT ivankovs kinetikaimehanizmélektroosaždeniâmediicinkavprisutstviidobavokpolifunkcionalʹnyhorganičeskihkislot AT vargalûkvf kinetikaimehanizmélektroosaždeniâmediicinkavprisutstviidobavokpolifunkcionalʹnyhorganičeskihkislot AT efimenkoev kinetikaimehanizmélektroosaždeniâmediicinkavprisutstviidobavokpolifunkcionalʹnyhorganičeskihkislot AT ivankovs kínetikaímehanízmelektroosadžennâmídítacinkuvprisutnostídobavokpolífunkcíonalʹnihorganíčnihkislot AT vargalûkvf kínetikaímehanízmelektroosadžennâmídítacinkuvprisutnostídobavokpolífunkcíonalʹnihorganíčnihkislot AT efimenkoev kínetikaímehanízmelektroosadžennâmídítacinkuvprisutnostídobavokpolífunkcíonalʹnihorganíčnihkislot AT ivankovs kineticandmechanismofcopperandzincelectrodepositioninthepresenceofadditivesofmultifunctionalorganicacids AT vargalûkvf kineticandmechanismofcopperandzincelectrodepositioninthepresenceofadditivesofmultifunctionalorganicacids AT efimenkoev kineticandmechanismofcopperandzincelectrodepositioninthepresenceofadditivesofmultifunctionalorganicacids |
| first_indexed |
2025-11-25T20:37:33Z |
| last_indexed |
2025-11-25T20:37:33Z |
| _version_ |
1850524608221937664 |
| fulltext |
7. Еременко Б.В., Малышева М .Л., Безуглая Т .Н .,
Савицкая А .Н . // Коллоид. журн. -1999. -61, № 5.
–С. 661—666.
8. Когановский А .М ., Клименко Н .А ., Левченко Т .М .,
Рода И.Г. Адсорбция органических веществ из
воды. -Л.: Химия, 1990.
9. Сліпенюк Т .С., Нечипорук В.В. // Укр. хим. журн.
-2001. -67. -№ 4. -С. 88—91.
10. Чураев Н .В. // Коллоид. журн. -1990. -52, № 4.
-С. 729—735.
11. Ефремов И .Ф., Усьяров О.Г. // Успехи химии. -
1976. -45, -№ 5. -С. 877—907.
Чернівецький національний університет ім. Ю . Федьковича Надійшла 15.04.2005
УДК 541.138.3
В.С. Иванко, В.Ф. Варгалюк, Е.В. Ефименко
КИНЕТИКА И МЕХАНИЗМ ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЯ МЕДИ И ЦИНКА
В ПРИСУТСТВИИ ДОБАВОК ПОЛИФУНКЦИОНАЛЬНЫХ ОРГАНИЧЕСКИХ КИСЛОТ
Исследован эффект влияния на процесс электроосаждения меди и цинка полифункциональных поверхнос-
тно-активных органических веществ — акриламида, винной и аспаргиновой кислот. Показано, что в присут-
ствии акриламида разряд ионов металла осложнен протекающей в объеме раствора предшествующей хими-
ческой реакцией диссоциации монолигандного комплекса CuL2+. В присутствии же винной и аспаргиновой
кислот механизм электродного процесса cводится к разряду адсорбированных комплексов CuL2+. При элек-
троосаждении цинка реализуется каталитическая реакция, включающая стадию образования поверхностного
электроактивного комплекса ZnL2+ за счет взаимодействия ионов Zn2+ с адсорбированной добавкой.
В работе [1] потенциостатическим методом
установлен эффект специфического влияния на
электроосаждение меди и цинка из пирофосфат-
ного электролита ряда поверхностно-активных ор-
ганических веществ (ПАОВ) — акриламида (АА),
винной (ВК) и аспаргиновой (АК) кислот. Как
показано в работах [2, 3], в подобных случаях в
электродном процессе могут играть существенную
роль адсорбция реагента и предшествующие раз-
ряду химические реакции, в результате которых
изменяется природа частиц, непосредственно уча-
ствующих в элементарном акте переноса заряда.
Для выяснения механизма электродного процес-
са в присутствии исследованных в работе [1] орга-
нических веществ, мы использовали потенциоди-
намический и хронопотенциометрический мето-
ды исследования.
Потенциодинамические и хронопотенциомет-
рические измерения осуществлялись при помощи
установки, включающей программатор ПР-8 и по-
тенциостат ПИ-50-1.1. Поляризационные i,E-кри-
вые (скорость изменения потенциала от 5 до 80
мВ⋅с–1) регистрировались на двухкоординатном са-
мописце ПДА-1, а хронопотенциограммы — на
запоминающем осциллографе С–19. Использова-
лась также дифференциальная хронопотенцио-
метрия [4], позволяющая более точно определить
момент достижения переходного времени τ.
Для исключения влияния пирофосфат-ионов
и выявления эффектов непосредственного дейст-
вия добавок на процесс разряда ионов металлов
измерения производились в 0.1 М растворе пер-
хлората натрия, содержащего 5⋅10–4 М Cu(ClO4)2
или Zn(ClO4)2 и 5⋅10–4—1.5⋅10–3 М добавки при
рН 4.1, в термостатированной (25 ± 0.1 С) трех-
электродной ячейкe емкостью 150 мл. Кислот-
ность электролитов перед измерениями коррек-
тировалась разбавленными растворами HClO4 и
NaOH с использованием рН-метра — милливо-
льтметра рН-673.М. Рабочим электродом служил
торец запрессованного в тефлон металлического
стержня площадью 0.12 см2. Электрод предвари-
тельно полировали на тонкой абразивной бумаге,
обрабатывали разбавленной (0.1 М) серной кис-
лотой, промывали дистиллированной и бидис-
тиллированной водой. Перед измерениями рабо-
чий раствор деаэрировали очищенным аргоном.
Потенциалы измеряли относительно хлорсереб-
ряного электрода сравнения. Электрохимические
измерения проводили после выдержки рабочего
электрода в исследуемом растворе в течениe 3 мин.
Результаты потенциодинамических измере-
ний, приведенные на рис. 1, указывают на тормо-
жение процесса электроосаждения меди в присут-
ствии исследованных ПАОВ. На качественном уро-
вне о характере действия добавок свидетельству-
© В.С. Иванко, В.Ф . Варгалюк, Е.В. Ефименко , 2006
ISSN 0041-6045. УКР. ХИМ . ЖУРН . 2006. Т . 72, № 10 103
ют найденные величины угловых коэффициентов
билогарифмической зависимости величины тока
от скорости изменения потенциала (критерий Се-
мерано К) [5]. Так, при введении акриламида К
уменьшается с 0.50 до 0.44, а при введении вин-
ной и аспаргиновой кислот возрастает до 0.78 и
0.87 соответственно и до 0.97 в присутствии ком-
позиции добавок. Найденные значения критерия
Семерано указывают на наличие скоростьопре-
деляющей предшествующей разряду химической
реакции в первом случае и участие в стадии раз-
ряда заметных количеств адсорбированных элек-
троактивных комплексов в остальных.
На существенные различия в характере вли-
яния отдельных органических веществ и их ком-
позиции на процесс электроосаждения меди ука-
зывают также результаты хронопотенциомет-
рических измерений.
Так, из экспериментальных данных рис. 2, а
видно, что в растворах Cu(ClO4)2 без ПАОВ про-
изведение іτ1/2 не зависит от плотности тока і. Най-
денное по уравнению Санда [6] значение коэф-
фициента диффузии D ионов Cu2+ составляет
0.68⋅10–5 см2⋅с–1.
Введение в раствор перхлората меди акрилами-
да приводит к закономерному снижению хронопо-
тенциометрической константы с увеличением плот-
ности тока (рис. 2, а), что свидетельствует о появ-
лении кинетических ограничений скорости элек-
тродного процесса.
Для определения природы частиц, участвую-
щих в электродном процессе в присутствии акрил-
амида, был проведен анализ зависимости угла на-
клона іτ1/2, і-кривых от концентрации свободно-
го лиганда в растворе [L] согласно уравнению [6]:
∂ lg
− ∂ (iτ
1⁄2)
∂i
/∂ lg[L] = n – q + 1/2 ,
где n и q —– порядок по лиганду комплексов,
участвующих в предшествующей разряду хими-
ческой реакции и разряжающихся на электроде.
Линейная зависимость ∂(iτ1/2)/∂i от [AA]1/2
(рис. 2, б) свидетельствует об участии в медленной
химической реакции преобладающих в растворе
комплексов.
По данным потенциометрических исследова-
ний [8], преобладающим в растворе комплексом
является комплекс Cu(АА)2+, а образование комп-
лекса Cu2+ с двумя лигандами акриламида мало-
вероятно. Поэтому логично предположить, что
предшествующей химической реакцией может
быть только реакция диссоциации монолиганд-
ного комплекса Cu(АА)2+:
Рис. 1. Потенциодинамические кривые электроосаж-
дения меди из раствора 5⋅10–4 М Cu(ClO4)2, 1⋅10–1 М
NaClO4 (1) и в присутствии 1.5⋅10–3 М акриламида (2),
винной (3), аспаргиновой (4) кислот или смеси добавок
акриламида, винной и аспаргиновой кислот (5).
Рис. 2. іτ1/2, i–зависимости электроосаждения меди из раствора 5⋅10–4 М Cu(ClO4)2, 1⋅10–1 М NaClO4, Х М
акриламида (а) и их обработка в координатах ∂(iτ1/2)/∂i от свободной концентрации добавки (б). Х : без добавки
(1); 5⋅10–4 М (2); 7.5⋅10–4 М (3); 1⋅10–3 М (4); 1.5⋅10–3 М (5).
104 ISSN 0041-6045. УКР. ХИМ . ЖУРН . 2006. Т. 72, № 10
Cu(AA)2+ Cu2+ + AA .
Из угла наклона іτ1/2, і-зависимости с исполь-
зованием приведенной в работе [8] константы ус-
тойчивости Cu(AA)2+ по уравнениям для реакций
первого порядка [7] были рассчитаны константы
скорости диссоциации k– = 5.36⋅104⋅с–1 и образо-
вания k+ = 2.75⋅1010 с–1⋅М -1 комплексов Cu2+ с ак-
риламидом, а по уравнению
µ = D
1⁄2
(k−)
1⁄2
толщина реакционного слоя µ=1.12⋅10–4 см.
Найденное значение µ значительно превыша-
ет линейные размеры двойного электрического
слоя, что свидетельствует о протекании предшест-
вующей химической реакции диссоциации ком-
плекса Cu(АА)2+ в объеме раствора.
Полученные данные позволяют предположить
следующую реакционную схему электроосажде-
ния меди в присутствии акриламида:
Cu(АА)V
2+
−AA
СuS
2+
+2 e
_
Cu0 .
В отличие от акриламида введение в раствор
перхлората меди винной или аспаргиновой кис-
лоты вызывает существенное увеличение произ-
ведения іτ1/2 с ростом плотности тока (рис. 3, а),
что указывает на заметную специфическую адсорб-
цию реагента.
Очевидно , в данном случае комплексы
Cu(АК)2+ и Cu(ВК)2+ проявляют большую электро-
активность по сравнению с комплексами Cu(АА)2+,
так что становится возможным их непосредст-
венный разряд на электроде. Здесь реализуются
следующие реакционные схемы:
Cu(АК )V
2+ Сu(АК)S
2+
+2 e
_
Cu0 + АК ;
Cu(ВК)V
2+ Сu(ВК)S
2+
+2 e
_
Cu0 + ВК .
Различное влияние исследуемых добавок на
кинетику и механизм электроосаждения меди из
перхлоратного раствора, по-видимому, зависит
от адсорбционной активности органических ве-
ществ и их комплексов с ионами Cu2+, а также
от динамики равновесий в растворе.
Представляло интерес получить количествен-
ную информацию о величинах адсорбции элект-
роактивных частиц.
Установлено, что в исследуемых объектах за-
висимости переходного времени от плотности то-
ка линеаризируются в координатах τ1/2 от 1/і.
Это позволило использовать уравнение
Cτ1/2 = nF(πD)
1⁄2(C)2
2i + π
1⁄2Γ
2D
1⁄2
для расчета величин адсорбции Г, которые соста-
вили 0.88⋅10–10 моль⋅см–2 для винной кислоты и
1.54⋅10–10 моль⋅см–2 для аспаргиновой кислоты.
Приведенные значения Г свидетельствуют об об-
разовании на поверхности электрода при элект-
роосаждении меди сплошных адсорбционных
слоев комплексов Cu2+с лигандами.
Так как характер влияния композиции АА+
+ВК+АК на разряд Cu2+ аналогичен действию
индивидуальных АК и ВК (рис. 3, а), результаты
хронопотенциометрических измерений мы обра-
ботали в идентичных координатах (рис. 3, б). Най-
денное значение Г здесь составило 2.80⋅10–10 моль⋅
см–2, что несколько превышает сумму адсорбции
индивидуальных комплексов Cu(АК)2+ и Cu(ВК)2+:
ΓΣ = (0.88⋅10–10 +1.54⋅10–10) моль⋅см–2 =2.42⋅10–10
Рис. 3. іτ1/2,i–зависимости электроосаждения меди из раствора 5⋅10–4 М Cu(ClO4)2, 1⋅10–1 М NaClO4, 1.5⋅10–3 М
добавки (а) и их обработка в координатах τ1/2, 1/i (б). Добавки: винная кислота (1), аспаргиновая кислота (2),
акриламид, винная и аспаргиновая кислоты (3).
ISSN 0041-6045. УКР. ХИМ . ЖУРН . 2006. Т . 72, № 10 105
моль⋅см-2. Можно предположить, что в этом слу-
чае на поверхности электрода образуется смешан-
ный адсорбционный слой, о чем свидетельству-
ет смещение потенциала минимума дифференци-
альной С,Е-кривой в отрицательную сторону [9].
Вероятно, внутри смешанного адсорбционного слоя
становится возможным образование тройных ком-
плексов Cu(АА,ВК,АК)2+, которые, судя по кон-
станте устойчивости β1111 = 5.6⋅1015 [8], достато-
чно прочны. Можно полагать, что образование
этих частиц отвечает формированию энергетиче-
ски выгодного для разряда ионов меди состояния
— специфических поверхностных комплексов
Cu(АА,ВК ,АК )2+, являющихся интермедиатами
электродного процесса в целом.
В отличие от системы Cu2+ ↔ Cu0, иссле-
дуемые добавки и их композиция ускоряют про-
цесс электроосаждения цинка из перхлоратного
раствора (рис. 4).
Поскольку электроосаждение цинка сопрово-
ждается выделением водорода, нам не представи-
лось возможным исследовать механизм электро-
восстановления ионов Zn2+ в присутствии доба-
вок хронопотенциометрическим методом. В то же
время, найденный из потенциодинамических из-
мерений критерий Семерано (при электроосажде-
нии цинка из раствора 5⋅10–4 М Zn(ClO4)2, 1⋅10–1 М
NaClO4 и в присутствии 1.5⋅10–3 М добавок, V=
=10–80 мВ/с) свидетельствует о кинетических ог-
раничениях скорости электродного процесса в
присутствии всех исследованных добавок:
Как видно, найденные К имеют близкие зна-
чения, что свидетельствует о сходном механизме
электродной реакции Zn2+ → Zn0 в присутствии
производных карбоновых кислот и их комплексов.
Так как устойчивость комплексов Zn2+ с ис-
следованными добавками значительно меньше по
сравнению с аналогичными комплексами ионов
Cu2+ — в случае АА и ВК β1 ниже примерно на два
порядка, а в случае АК — даже на пять порядков
[8], можно предположить, что наблюдаемая пред-
шествующая химическая реакция соответствует
не диссоциации диффундирующего из объема рас-
твора комплекса ZnL2+, а его образованию в по-
верхностном слое. В этом случае имеет место поверх-
ностная каталитическая реакция:
Zn2+ + LS ZnLS
2+
+2 e
_
Zn0 + LS .
Из изложенного видно, что в реакциях Zn2+
→ Zn0 и Cu2+→ Cu0 реализуются противополож-
ные эффекты влияния исследованных добавок: элек-
троосаждение цинка в их присутствии ускоряется,
а меди, наоборот, тормозится.
Сочетанием этих эффектов специфического
действия полифункциональных производных ор-
ганических кислот на разряд ионов Cu2+ и Zn2+
достигается сближение потенциалов выделения
меди и цинка из комплексного электролита, что
дает возможность осаждать качественные сплавы
этих металлов.
РEЗЮМЕ. Хронопотенціометричним та потенці-
одинамічним методами досліджено механізм електроо-
садження міді та цинку в присутності акриламіду, винної
та аспаргінової кислот. Показано, що при розряді йонів
цинку виникають кінетичні обмеження швидкості елек-
тродного процесу в присутності всіх органічних сполук.
Електровідновлення йонів міді ускладнено попередньою
хімічною реакцією лише в присутності акриламіду, а
в присутності винної та аспаргінової кислот кінетика елек-
тродного процесу визначається адсорбційною актив-
ністю добавок та стійкістю їх комплексів з Cu2+ .
SUMMARY. The mechanism of copper and zinc
electrodeposition in the presence of acrylamide, tartar and
asparaginic acids has been investigated by chronopoten-
tiometric and potentiodynamic methods. It is shown that
kinetic limitation of rate of the electrоde process arises
Добавка Акрил-
амид
Винная
кислота
Аспаргиновая
кислота
Композиция
добавок
Критерий
Семерано, K 0.41 0.40 0.38 0.37
Рис. 4. Потенциодинамические кривые электроосаж-
дения цинка из раствора 5⋅10–4 М Zn(ClO4)2, 1⋅10–1 М
NaClO4 (1) и в присутствии 1.5⋅10–3 М акриламида (2),
винной (3), аспаргиновой (4) кислот или смеси добавок
акриламида, винной и аспаргиновой кислот (5).
106 ISSN 0041-6045. УКР. ХИМ . ЖУРН . 2006. Т. 72, № 10
during zinc ions discharge in the presence of the all organic
substances. Copper electroreduction is complicated by
preceding chemical reaction only in the presence of acryla-
mide. In the presence of tartar and asparaginic acids the
kinetic of electrode process is determined by adsorption
activity of the additives and stability of their complexes
with Cu2+.
1. Иванко В.С., Варгалюк В.Ф., Ефименко Е.В. // Вісн.
Дніпропетр. ун-ту. Хімія. -Вип. 5. -2000. -С. 46—48.
2. Стромберг А .Г., Картушинская А .И . // Изв. СО
АН СССР. -1961. -№ 11. -С. 88—97.
3. Кравцов В.И . // Электрохимия. -1968. -4, № 4. -С.
486—488.
4. Делахей П. Новые приборы и методы в электро-
химии. М .: Изд.-во иностр. лит., 1957.
5. Семерано Дж., Вианелло Е. // VIII Меделеевский
съезд. Докл. иностр. ученых. -М .: Изд-во АН
СССР, 1959. -С. 87—90.
6. Галюс З. Теоретические основы электрохимичес-
кого анализа. -М .: Мир, 1974.
7. Кравцов В.И . Электродные процессы в растворах
комплексов металлов. -Ленинград: Изд-во Ленин-
град. ун-та, 1969.
8. Иванко В.С., Варгалюк В.Ф., Ефименко Е.В., Лукья-
ненко Т .В. // Вопросы химии и хим. технологии.
-2004. -№ 1. -С. 26—28.
9. Иванко В.С., Ефименко Е.В. // Вісн. Дніпропетр.
ун-ту. Хімія. -Вип. 6. -2001. -С. 101—104.
Днепропетровский национальный университет Поступила 25.02.2005
ISSN 0041-6045. УКР. ХИМ . ЖУРН . 2006. Т . 72, № 10 107
|