Ізотермічне окиснення порошків твердого розчину Cu₁₋ₓGaₓ

• Published in: Украинский химический журнал
• Date: 2010
• Main Authors: Тимошенко, М.В., Білявина, Н.М., Тітов, Ю.О., Марків, В.Я., Слободяник, М.С.
• Format: Article
• Language: Ukrainian
• Published: Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України 2010
• Subjects: Неорганическая и физическая химия
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/185950
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Ізотермічне окиснення порошків твердого розчину Cu₁₋ₓGaₓ / М.В. Тимошенко, Н.М. Білявина, Ю.О. Тітов, В.Я. Марків, М.С. Слободяник // Украинский химический журнал. — 2010. — Т. 76, № 4. — С. 75-80. — Бібліогр.: 9 назв. — укр.

Досліджено кінетику ізотермічного (600—850 °С) окиснення порошків твердого розчину Cu₁₋ₓGaₓ. Показано, що в залежності від температури (T) та вмісту в сплаві галію (с) швидкість окиснення (k) може бути описана виразом: k = k₀exp(–0.6751c/R)exp(–(E₀+2093c)/RT). Окиснення порошків твердого розчину Cu₁₋ₓGaₓ, кінцевими продуктами якого є CuO та CuGa₂O₄, здійснюється на центрах, які з часом активуються згідно з експоненційним законом. Галій, який суттєво знижує швидкість окиснення міді (k), можна розглядати як ефективний інгібітор корозії мідних сплавів. Исследована кинетика изотермического (600—850 °С) окисления порошков твердого раствора Cu₁₋ₓGaₓ. Показано, что в зависимости от температуры (T) и содержания в сплаве галлия (с) скорость окисления (k) можно представить как k = k₀exp(–0.6751c/R)×exp(–(E₀+2093c)/RT). Окисление порошков твердого раствора Cu₁₋ₓGaₓ происходит на активирующихся по экспоненциальному закону центрах. Конечными продуктами окисления являются CuO и CuGa₂O₄. Галлий, существенно понижающий скорость окисления меди, можно рассматривать как эффективный ингибитор коррозии медных сплавов. The isothermal (600—850 °С) kinetics of the Cu₁₋ₓGaₓ solid solution powders were studied. It was shown that depending on the temperature (T) and gallium content (c) oxidation rate (k) should be presented as: k = k₀exp(–0.6751c/R)exp(–(E₀+2093c)/RT). The oxidation process of the Cu₁₋ₓGaₓ solid solution powders could be described within the random nucleation model. CuO and CuGa₂O₄ compounds are the end products of this process. It was shown that oxidation rates of the Cu₁₋ₓGaₓ alloys within the increase of Ga-content essentially decrease. So, gallium is the effective corrosion inhibitor for copper alloys.