Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне
В W-устойчивой клеточной линии сои, которую культивировали в присутствии анионов WO4^2-; VO3^-; ClO3^- и на контрольной среде изучали динамику содержания уровня свободного пролина. Селективные среды с ионами вольфрама или ванадия содержали только нитраты; селективные среды с KClO3 содержали либо нит...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів |
|---|---|
| Datum: | 2009 |
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Українське товариство генетиків і селекціонерів ім. М.І. Вавилова
2009
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/18884 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне / С.И. Михальская, Е.И. Порецкая, Л.Е. Сергеева // Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів. — 2009. — Т. 7, № 1. — С. 74-81. — Бібліогр.: 26 назв. — рос. |