Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне

• Published in: Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів
• Date: 2009
• Main Authors: Михальская, С.И., Порецкая, Е.И., Сергеева, Л.Е.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Українське товариство генетиків і селекціонерів ім. М.І. Вавилова 2009
• Subjects: Оригінальні статті
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/18884
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне / С.И. Михальская, Е.И. Порецкая, Л.Е. Сергеева // Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів. — 2009. — Т. 7, № 1. — С. 74-81. — Бібліогр.: 26 назв. — рос.

В W-устойчивой клеточной линии сои, которую культивировали в присутствии анионов WO4^2-; VO3^-; ClO3^- и на контрольной среде изучали динамику содержания уровня свободного пролина. Селективные среды с ионами вольфрама или ванадия содержали только нитраты; селективные среды с KClO3 содержали либо нит...