Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type

The kinetics of the formation of perfect n– and p–type silicon single crystals is considered. The peculiarity of the formation of point and linear defects in the process of a controlled phase transformation of a liquid–solid is established. The effect of supersaturation by vacancies of the direction...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Вопросы атомной науки и техники
Date:2020
Main Authors: Azarenkov, N.A., Semenenko, V.E., Stervoyedov, N.G.
Format: Article
Language:English
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2020
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194344
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type / N.A. Azarenkov, V.E. Semenenko, N.G. Stervoyedov // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 1. — С. 44-50. — Бібліогр.: 19 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862723590832521216
author Azarenkov, N.A.
Semenenko, V.E.
Stervoyedov, N.G.
author_facet Azarenkov, N.A.
Semenenko, V.E.
Stervoyedov, N.G.
citation_txt Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type / N.A. Azarenkov, V.E. Semenenko, N.G. Stervoyedov // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 1. — С. 44-50. — Бібліогр.: 19 назв. — англ.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description The kinetics of the formation of perfect n– and p–type silicon single crystals is considered. The peculiarity of the formation of point and linear defects in the process of a controlled phase transformation of a liquid–solid is established. The effect of supersaturation by vacancies of the direction of predominant growth and concentration of impurities on the formation and removal of edge and screw dislocations is determined. The effect of linear defects on the scattering and recombination of mobile current carriers is revealed. The possibilities of increasing the stability and efficiency of silicon semiconductor devices are discussed. Розглянута кінетика формування досконалих монокристалів кремнію n– та p–типів. Встановлена особливість утворення точкових і лінійних дефектів у процесі контрольованого фазового перетворення рідина–тверде тіло. Визначено вплив пересичення вакансіями напрямку переважного зростання і концентрації домішок на процес утворення і видалення крайових і гвинтових дислокацій. З’ясовано роль лінійних дефектів на розсіяння і рекомбінацію рухомих носіїв струму. Обговорюються можливості підвищення стабільності роботи, ККД кремнієвих напівпровідникових приладів. Рассмотрена кинетика формирования совершенных монокристаллов кремния n– и p–типов. Установлена особенность образования точечных и линейных дефектов в процессе контролируемого фазового превращения жидкость–твердое тело. Определено влияние пересыщения вакансиями направления преимущественного роста и концентрации примесей на процесс образования и удаления краевых и винтовых дислокаций. Выяснена роль линейных дефектов на рассеяние и рекомбинацию подвижных носителей тока. Обсуждаются возможности повышения стабильности работы, КПД кремниевых полупроводниковых приборов.
first_indexed 2025-12-07T18:42:38Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-194344
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language English
last_indexed 2025-12-07T18:42:38Z
publishDate 2020
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Azarenkov, N.A.
Semenenko, V.E.
Stervoyedov, N.G.
2023-11-22T16:27:36Z
2023-11-22T16:27:36Z
2020
Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type / N.A. Azarenkov, V.E. Semenenko, N.G. Stervoyedov // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 1. — С. 44-50. — Бібліогр.: 19 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 81.10.Fg, 88.40.jj, 78.40.Fuy, 81.40.-z, 85.40.Ry, 72.10.Fk
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194344
The kinetics of the formation of perfect n– and p–type silicon single crystals is considered. The peculiarity of the formation of point and linear defects in the process of a controlled phase transformation of a liquid–solid is established. The effect of supersaturation by vacancies of the direction of predominant growth and concentration of impurities on the formation and removal of edge and screw dislocations is determined. The effect of linear defects on the scattering and recombination of mobile current carriers is revealed. The possibilities of increasing the stability and efficiency of silicon semiconductor devices are discussed.
Розглянута кінетика формування досконалих монокристалів кремнію n– та p–типів. Встановлена особливість утворення точкових і лінійних дефектів у процесі контрольованого фазового перетворення рідина–тверде тіло. Визначено вплив пересичення вакансіями напрямку переважного зростання і концентрації домішок на процес утворення і видалення крайових і гвинтових дислокацій. З’ясовано роль лінійних дефектів на розсіяння і рекомбінацію рухомих носіїв струму. Обговорюються можливості підвищення стабільності роботи, ККД кремнієвих напівпровідникових приладів.
Рассмотрена кинетика формирования совершенных монокристаллов кремния n– и p–типов. Установлена особенность образования точечных и линейных дефектов в процессе контролируемого фазового превращения жидкость–твердое тело. Определено влияние пересыщения вакансиями направления преимущественного роста и концентрации примесей на процесс образования и удаления краевых и винтовых дислокаций. Выяснена роль линейных дефектов на рассеяние и рекомбинацию подвижных носителей тока. Обсуждаются возможности повышения стабильности работы, КПД кремниевых полупроводниковых приборов.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Pure materials and the vacuum technologies
Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type
Еволюція дислокаційної структури в процесі вирощування монокристалів кремнію n– та p–типів
Эволюция дислокационной структуры в процессе выращивания монокристаллов кремния n– и p–типов
Article
published earlier
spellingShingle Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type
Azarenkov, N.A.
Semenenko, V.E.
Stervoyedov, N.G.
Pure materials and the vacuum technologies
title Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type
title_alt Еволюція дислокаційної структури в процесі вирощування монокристалів кремнію n– та p–типів
Эволюция дислокационной структуры в процессе выращивания монокристаллов кремния n– и p–типов
title_full Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type
title_fullStr Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type
title_full_unstemmed Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type
title_short Evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type
title_sort evolution of a dislocation structure during the growth silicon single crystals of n– and p–type
topic Pure materials and the vacuum technologies
topic_facet Pure materials and the vacuum technologies
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194344
work_keys_str_mv AT azarenkovna evolutionofadislocationstructureduringthegrowthsiliconsinglecrystalsofnandptype
AT semenenkove evolutionofadislocationstructureduringthegrowthsiliconsinglecrystalsofnandptype
AT stervoyedovng evolutionofadislocationstructureduringthegrowthsiliconsinglecrystalsofnandptype
AT azarenkovna evolûcíâdislokacíinoístrukturivprocesíviroŝuvannâmonokristalívkremníûntaptipív
AT semenenkove evolûcíâdislokacíinoístrukturivprocesíviroŝuvannâmonokristalívkremníûntaptipív
AT stervoyedovng evolûcíâdislokacíinoístrukturivprocesíviroŝuvannâmonokristalívkremníûntaptipív
AT azarenkovna évolûciâdislokacionnoistrukturyvprocessevyraŝivaniâmonokristallovkremniâniptipov
AT semenenkove évolûciâdislokacionnoistrukturyvprocessevyraŝivaniâmonokristallovkremniâniptipov
AT stervoyedovng évolûciâdislokacionnoistrukturyvprocessevyraŝivaniâmonokristallovkremniâniptipov