Dependences of helium retention in tungsten and tantalum coatings irradiated with He⁺ ions on fluence and temperature

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2020
• Main Authors: Bobkov, V.V., Tishchenko, L.P., Kovtunenko, Yu.I., Skrypnyk, A.O., Gamayunova, L.O.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2020
• Subjects: Plasma dynamics and plasma-wall interaction
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194651
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Dependences of helium retention in tungsten and tantalum coatings irradiated with He⁺ ions on fluence and temperature / V.V. Bobkov, L.P. Tishchenko, Yu.I. Kovtunenko, A.O. Skrypnyk, L.O. Gamayunova // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 93-97. — Бібліогр.: 16 назв. — англ.

The processes of helium accumulation and thermal desorption for tungsten and tantalum coatings deposited on a stainless-steel substrate with an intermediate titanium layer were studied at various temperatures of the samples when irradiated with He⁺ ions to various fluences. The dependences of the concentration of captured helium and the form of the spectra of its thermal desorption into vacuum were found both on the fluence of He⁺ ions and on the temperature of the samples upon irradiation. Possible mechanisms for the accumulation and thermal desorption of helium, as well as the formation of defects in the crystal lattice of the samples, are discussed. Досліджено процеси накопичення і термодесорбції гелію для вольфрамового і танталового покриттів, осаджених на підкладку з нержавіючої сталі з проміжним шаром титану, з різними температурами зразків при опроміненні іонами He⁺ до різних доз. Виявлено залежності концентрації захопленого гелію і вид спектрів його термічної десорбції в вакуум як від дози опромінення іонами He⁺, так і температури зразків при опроміненні. Запропоновано можливі механізми накопичення і термодесорбції гелію, а також утворення дефектів кристалічної решітки зразків. Исследованы процессы накопления и термодесорбции гелия для вольфрамового и танталового покрытий, осажденных на подложку из нержавеющей стали с промежуточным слоем титана, с различными температурами образцов при облучении ионами He⁺ до различных доз. Обнаружены зависимости концентрации захваченного гелия и вид спектров его термической десорбции в вакуум как от дозы облучения ионами He⁺, так и температуры образцов при облучении. Предложены возможные механизмы накопления и термодесорбции гелия, а также образования дефектов кристаллической решетки образцов.