Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
The redistribution of the flow of sputtered material of a target (cathode) between the collector and the target in a plane–parallel electrode system with an anomalous glow discharge is analyzed in the kinetic approximation. Sputtering is the result of bombardment of the target by gas ions accelerate...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2020 |
| Main Authors: | , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2020
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194653 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge / A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.G. Shinkarenko, V.M. Shulaev // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862552300261736448 |
|---|---|
| author | Kuzmichev, A.I. Melnichenko, M.S. Shinkarenko, V.G. Shulaev, V.M. |
| author_facet | Kuzmichev, A.I. Melnichenko, M.S. Shinkarenko, V.G. Shulaev, V.M. |
| citation_txt | Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge / A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.G. Shinkarenko, V.M. Shulaev // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The redistribution of the flow of sputtered material of a target (cathode) between the collector and the target in a plane–parallel electrode system with an anomalous glow discharge is analyzed in the kinetic approximation. Sputtering is the result of bombardment of the target by gas ions accelerated in the near–cathode space charge layer and by fast neutral atoms formed as a result of resonant ion charge exchange. Sputtered atoms partially return to the target due to collisions with gas molecules. The formulas were obtained, which were confirmed in the experiment that makes it possible to correctly estimate the ratio of the sputtered material flows deposited on the collector and the target. The results of the work are used to calculate the parameters of the processes of coating deposition and ion cleaning of the target under conditions of the anomalous glow discharge.
Аналізується в кінетичному наближенні перерозподіл потоку розпиленого матеріалу мішені (катода) між колектором і мішенню в плоскопаралельній електродній системі з аномальним тліючим розрядом. Розпилення є результатом бомбардування мішені газовими іонами, прискореними в катодному шарі просторового заряду, і швидкими нейтральними атомами, що утворюються в результаті резонансного перезарядження іонів. Розпилені атоми частково повертаються на мішень через зіткнення з газовими молекулами. Отримано формули, підтверджені в експерименті, які дозволяють коректно оцінити співвідношення потоків розпиленого матеріалу, що осідають на колекторі і мішені. Результати роботи використовуються для розрахунку параметрів процесів нанесення покриттів і іонної очистки мішені в умовах аномального тліючого розряду.
Анализируется в кинетическом приближении перераспределение потока распылeнного материала мишени (катода) между коллектором и мишенью в плоскопараллельной электродной системе с аномальным тлеющим разрядом. Распыление является результатом бомбардировки катода–мишени газовыми ионами, ускоренными в прикатодном слое пространственного заряда, и быстрыми нейтральными атомами, образующимися в результате резонансной перезарядки ионов. Распылeнные атомы частично возвращаются на мишень из-за столкновений с газовыми молекулами. Получены формулы, подтвержденные в эксперименте, что позволяет корректно оценить соотношение потоков распыленного материала, осаждающихся на коллекторе и мишени. Результаты работы используются для расчета параметров процессов нанесения покрытий и ионной очистки мишени в условиях аномального тлеющего разряда.
|
| first_indexed | 2025-11-25T20:57:24Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-194653 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-11-25T20:57:24Z |
| publishDate | 2020 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Kuzmichev, A.I. Melnichenko, M.S. Shinkarenko, V.G. Shulaev, V.M. 2023-11-28T12:12:52Z 2023-11-28T12:12:52Z 2020 Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge / A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.G. Shinkarenko, V.M. Shulaev // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 81.15.Cd; 81.65.Cf https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194653 The redistribution of the flow of sputtered material of a target (cathode) between the collector and the target in a plane–parallel electrode system with an anomalous glow discharge is analyzed in the kinetic approximation. Sputtering is the result of bombardment of the target by gas ions accelerated in the near–cathode space charge layer and by fast neutral atoms formed as a result of resonant ion charge exchange. Sputtered atoms partially return to the target due to collisions with gas molecules. The formulas were obtained, which were confirmed in the experiment that makes it possible to correctly estimate the ratio of the sputtered material flows deposited on the collector and the target. The results of the work are used to calculate the parameters of the processes of coating deposition and ion cleaning of the target under conditions of the anomalous glow discharge. Аналізується в кінетичному наближенні перерозподіл потоку розпиленого матеріалу мішені (катода) між колектором і мішенню в плоскопаралельній електродній системі з аномальним тліючим розрядом. Розпилення є результатом бомбардування мішені газовими іонами, прискореними в катодному шарі просторового заряду, і швидкими нейтральними атомами, що утворюються в результаті резонансного перезарядження іонів. Розпилені атоми частково повертаються на мішень через зіткнення з газовими молекулами. Отримано формули, підтверджені в експерименті, які дозволяють коректно оцінити співвідношення потоків розпиленого матеріалу, що осідають на колекторі і мішені. Результати роботи використовуються для розрахунку параметрів процесів нанесення покриттів і іонної очистки мішені в умовах аномального тліючого розряду. Анализируется в кинетическом приближении перераспределение потока распылeнного материала мишени (катода) между коллектором и мишенью в плоскопараллельной электродной системе с аномальным тлеющим разрядом. Распыление является результатом бомбардировки катода–мишени газовыми ионами, ускоренными в прикатодном слое пространственного заряда, и быстрыми нейтральными атомами, образующимися в результате резонансной перезарядки ионов. Распылeнные атомы частично возвращаются на мишень из-за столкновений с газовыми молекулами. Получены формулы, подтвержденные в эксперименте, что позволяет корректно оценить соотношение потоков распыленного материала, осаждающихся на коллекторе и мишени. Результаты работы используются для расчета параметров процессов нанесения покрытий и ионной очистки мишени в условиях аномального тлеющего разряда. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge Перерозподіл розпиленого матеріалу в плоскії іонно-плазмовій системі з аномальним тліючим розрядом Перераспределение распыленного материала в плоской ионно-плазменной системе с аномальным тлеющим разрядом Article published earlier |
| spellingShingle | Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge Kuzmichev, A.I. Melnichenko, M.S. Shinkarenko, V.G. Shulaev, V.M. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge |
| title_alt | Перерозподіл розпиленого матеріалу в плоскії іонно-плазмовій системі з аномальним тліючим розрядом Перераспределение распыленного материала в плоской ионно-плазменной системе с аномальным тлеющим разрядом |
| title_full | Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge |
| title_fullStr | Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge |
| title_full_unstemmed | Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge |
| title_short | Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge |
| title_sort | redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194653 |
| work_keys_str_mv | AT kuzmichevai redistributionofsputteredmaterialinaplaneionplasmasystemwithanabnormalglowdischarge AT melnichenkoms redistributionofsputteredmaterialinaplaneionplasmasystemwithanabnormalglowdischarge AT shinkarenkovg redistributionofsputteredmaterialinaplaneionplasmasystemwithanabnormalglowdischarge AT shulaevvm redistributionofsputteredmaterialinaplaneionplasmasystemwithanabnormalglowdischarge AT kuzmichevai pererozpodílrozpilenogomateríaluvploskíííonnoplazmovíisistemízanomalʹnimtlíûčimrozrâdom AT melnichenkoms pererozpodílrozpilenogomateríaluvploskíííonnoplazmovíisistemízanomalʹnimtlíûčimrozrâdom AT shinkarenkovg pererozpodílrozpilenogomateríaluvploskíííonnoplazmovíisistemízanomalʹnimtlíûčimrozrâdom AT shulaevvm pererozpodílrozpilenogomateríaluvploskíííonnoplazmovíisistemízanomalʹnimtlíûčimrozrâdom AT kuzmichevai pereraspredelenieraspylennogomaterialavploskoiionnoplazmennoisistemesanomalʹnymtleûŝimrazrâdom AT melnichenkoms pereraspredelenieraspylennogomaterialavploskoiionnoplazmennoisistemesanomalʹnymtleûŝimrazrâdom AT shinkarenkovg pereraspredelenieraspylennogomaterialavploskoiionnoplazmennoisistemesanomalʹnymtleûŝimrazrâdom AT shulaevvm pereraspredelenieraspylennogomaterialavploskoiionnoplazmennoisistemesanomalʹnymtleûŝimrazrâdom |