Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
The redistribution of the flow of sputtered material of a target (cathode) between the collector and the target in a plane–parallel electrode system with an anomalous glow discharge is analyzed in the kinetic approximation. Sputtering is the result of bombardment of the target by gas ions accelerate...
Збережено в:
| Опубліковано в: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2020 |
| ISSN: | 1562-6016 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2020
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194653 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge / A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.G. Shinkarenko, V.M. Shulaev // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Influence of the magnetic field of the current passing through the anode on a glow discharge in a coaxial system
за авторством: Melnichenko, M.S., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Melnichenko, M.S., та інші
Опубліковано: (2022)
High-voltage gas-discharge current limiter-interrupter using high-density glow discharge
за авторством: Drozd, I.M., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Drozd, I.M., та інші
Опубліковано: (2016)
Dissipative structure in the glow discharge
за авторством: Ponomaryov, O.P., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Ponomaryov, O.P., та інші
Опубліковано: (2008)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)
Studying CO₂ conversion in DC glow discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Glow discharge with a hollow cathode in carbon dioxide
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Flat electrode diameter effect on glow discharge structure and properties
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Influence of voltage pulse duration on ignition of glow discharge in air
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Investigation of characteristics of non-simultaneous arc discharge in titanium vapors in glow discharge electron evaporators
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Back-scattering and neutralization coefficients of nitrogen ions on iron surface
за авторством: Kuzmichev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Kuzmichev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
Dc glow discharge for synthesis diamond films with high growth rate
за авторством: Gritsyna, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Gritsyna, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)
The influence of nitrogen admixture on concentration of an electronic–excited helium atoms in atmospheric pressure glow discharge
за авторством: Arkhipenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Arkhipenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
New in development of negative hydrogen ion source with combined discharge
за авторством: Dobrovolsky, A., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Dobrovolsky, A., та інші
Опубліковано: (2016)
Separation of negative hydrogen ions from penning discharge with metal-hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2016)
Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)
Influence of dielectric barrier discharge on beet seeds germination
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2023)
The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
Influence of wide-aperture rotating gliding discharge on sunflower seed germination
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)
Plasma of electric arc discharge between Cu-Mo electrodes
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Microwave discharge as a source of light
за авторством: Brodsky, Yu.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Brodsky, Yu.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)
On the contraction of an arc discharge in gaseous mixtures
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2005)
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2005)
Dusty discharges with secondary electron emission
за авторством: Chutov, Yu. I., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Chutov, Yu. I., та інші
Опубліковано: (2002)
Corona discharge influence on micro-organisms
за авторством: Scholtz, V.
Опубліковано: (2005)
за авторством: Scholtz, V.
Опубліковано: (2005)
Discharge characteristics in the MPC channel in presence of external longitudinal magnetic field
за авторством: Solyakov, D.G., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Solyakov, D.G., та інші
Опубліковано: (2019)
Impact of corona discharge on Aspergillus niger spores and Cyathus olla mycelium growth
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Generation of silver nanoparticles in a plasma-liquid system with a secondary discharge supported by a rotating gliding discharge
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
A study of some key problems of hall accelerator operation over the expended range of discharge voltage
за авторством: Oghienko, S.A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Oghienko, S.A., та інші
Опубліковано: (2007)
Numerical simulation of nanoparticles coagulation in RF-discharge
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)