Buchumschlag

Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge

The redistribution of the flow of sputtered material of a target (cathode) between the collector and the target in a plane–parallel electrode system with an anomalous glow discharge is analyzed in the kinetic approximation. Sputtering is the result of bombardment of the target by gas ions accelerate...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2020
Hauptverfasser: Kuzmichev, A.I., Melnichenko, M.S., Shinkarenko, V.G., Shulaev, V.M.
Format: Artikel
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2020
Schlagworte:
Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194653
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge / A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.G. Shinkarenko, V.M. Shulaev // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Ähnliche Einträge

Ähnliche Einträge