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Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge

The redistribution of the flow of sputtered material of a target (cathode) between the collector and the target in a plane–parallel electrode system with an anomalous glow discharge is analyzed in the kinetic approximation. Sputtering is the result of bombardment of the target by gas ions accelerate...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2020
Hauptverfasser:	Kuzmichev, A.I., Melnichenko, M.S., Shinkarenko, V.G., Shulaev, V.M.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2020
Schlagworte:	Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194653
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge / A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.G. Shinkarenko, V.M. Shulaev // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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