Зображення обкладинки

Plasma-chemical method of grain fungal contamination control

The experimental results n the effect of grain treatment with ozone-air mixture on the level of artificial grain contamination with micromycetes are presented. The contamination dynamics for 1000 kg of wheat grain contaminated with Penicillium nordicum and Aspergillus flavus and stored in the protot...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2020
Автори:	Taran, G.V., Pugach, S.G., Zamuriev, A.A., Opalev, P.O., Yaroshenko, M.O.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2020
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194659
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Plasma-chemical method of grain fungal contamination control / G.V. Taran, S.G. Pugach, A.A. Zamuriev, P.O. Opalev, M.O. Yaroshenko // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 127-130. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Study of the effect of plasma chemical oxidation of ethylene impurity on the efficiency of banana storage
за авторством: Egorov, M.O., та інші
Опубліковано: (2022)

Influence of cold atmospheric plasma of microdischarge on fungal mycelium and spores growing
за авторством: Veremii, Yu., та інші
Опубліковано: (2019)

“String” type of barrierless plasma chemical reactor for generation ozone from air
за авторством: Kudin, D.V., та інші
Опубліковано: (2021)

Application of bipolar plasma discharge over the liquid surface for water purification from chemical and bacterial pollution
за авторством: Liesnoi, V.O., та інші
Опубліковано: (2019)

The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)

Application of dielectric barrier discharge and plasma-chemical reactor for water purification from NH₄OH
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Axial coil accelerator of plasma ring in the atmospheric pressure air
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Secondary streamers in the primary streamer channel
за авторством: Bolotov, O., та інші
Опубліковано: (2019)

Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)

Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)

The synthesis of TiAlN composites by condensation of the different arc plasma flows
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)

Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Plasma-chemical methods for control of biotic contaminants
за авторством: Taran, G.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)

Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)

Emission spectra and current characteristics of negative corona discharge in an electrode system with liquid anode
за авторством: Bolotov, O.V., та інші
Опубліковано: (2020)

Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Dynamics of macroparticle in a weakly collisional plasma
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Transport processes in the low pressure gas discharge plasma
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Plasma of underwater electric discharges with metal vapors
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)

Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)

Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)

The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)

Novel project on total plasma based treatment of waste
за авторством: Van Oost, G., та інші
Опубліковано: (2005)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Shock alloying of metals by cumulative plasma streams
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)

Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)

Emission characteristics of gas discharge plasma on mixtures of cadmium diodide vapor, helium and xenon
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)

Plasma chemistry of SOx in a pulsed electric discharge at atmosphere pressure
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)

Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)

Investigation of jumping pulsed electrical discharge for plasma chemistry application
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2002)

Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
за авторством: Pugatch, V.M., та інші
Опубліковано: (2007)

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)

Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)

Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)