Plasma-chemical method of grain fungal contamination control
The experimental results n the effect of grain treatment with ozone-air mixture on the level of artificial grain contamination with micromycetes are presented. The contamination dynamics for 1000 kg of wheat grain contaminated with Penicillium nordicum and Aspergillus flavus and stored in the protot...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2020 |
| Автори: | Taran, G.V., Pugach, S.G., Zamuriev, A.A., Opalev, P.O., Yaroshenko, M.O. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2020
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194659 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Plasma-chemical method of grain fungal contamination control / G.V. Taran, S.G. Pugach, A.A. Zamuriev, P.O. Opalev, M.O. Yaroshenko // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 127-130. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Study of the effect of plasma chemical oxidation of ethylene impurity on the efficiency of banana storage
за авторством: Egorov, M.O., та інші
Опубліковано: (2022) -
Influence of cold atmospheric plasma of microdischarge on fungal mycelium and spores growing
за авторством: Veremii, Yu., та інші
Опубліковано: (2019) -
“String” type of barrierless plasma chemical reactor for generation ozone from air
за авторством: Kudin, D.V., та інші
Опубліковано: (2021) -
Application of bipolar plasma discharge over the liquid surface for water purification from chemical and bacterial pollution
за авторством: Liesnoi, V.O., та інші
Опубліковано: (2019) -
The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)