Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
The work is devoted to improvement of magnetron discharge parameters based on a standard magnetron sputtering system (MSS) of the MAG-5 type with an additional anode magnetic trap for discharge electrons in the conditions of localization of the discharge zone in the gap between electrodes to prevent...
Збережено в:
| Дата: | 2020 |
|---|---|
| Автори: | Chunadra, А.G., Sereda, К.N., Tarasov, I.K., Vereshchaka, Y.A. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2020
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194663 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, Y.A. Vereshchaka // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 146-149. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020) -
Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022) -
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021) -
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003) -
Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)