Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
The dependences of the growth rate and intrinsic stress on the accelerating potential for coating TiN deposited from the Ti⁺ ion flow on the surface of cylindrical article are investigated theoretically. The sample rotates around the symmetry axis perpendicular to the flow of incident ions. The stud...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2019 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194704 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample / A.I. Kalinichenko, V.E. Strel’nitskij // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 142-144. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-194704 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Kalinichenko, A.I. Strel’nitskij, V.E. 2023-11-29T09:12:33Z 2023-11-29T09:12:33Z 2019 Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample / A.I. Kalinichenko, V.E. Strel’nitskij // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 142-144. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 61.80.Az, 81.65.-b https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194704 The dependences of the growth rate and intrinsic stress on the accelerating potential for coating TiN deposited from the Ti⁺ ion flow on the surface of cylindrical article are investigated theoretically. The sample rotates around the symmetry axis perpendicular to the flow of incident ions. The study is carried out within the framework of the model of the nonlocal thermoelastic peak of the low-energy ion, taking into account the sputtering of the coating atoms. The cases of the DC mode and the pulsed potential mode are considered. It is shown that the intrinsic stress in the coating TiN to be deposited on the rotating cylinder are ~ 20 % less than in the coating deposited on the flat substrate located perpendicular to the incident ion flow. Теоретично досліджуються залежності швидкості росту і внутрішнього напруження від прискорюючого потенціалу для покриття TiN, що осаджується з потоку іонів Ti⁺ на поверхню циліндричного виробу, що обертається навколо осі симетрії, розташованої перпендикулярно потоку падаючих іонів. Дослідження проводиться в рамках моделі нелокального термопружного піку низькоенергетичного іона з урахуванням процесів розпилення атомів покриття. Розглянуто випадки постійного та імпульсного потенціалів на підкладці. Показано, що внутрішні напруження в покритті TiN, що осаджується на циліндр, що обертається, на ~ 20 % менше, ніж у покритті, що осаджується на плоску підкладку, розташовану перпендикулярно падаючому потоку іонів. Теоретически исследуются зависимости скорости роста и внутренних напряжений от ускоряющего потенциала для покрытия TiN, осаждаемого из потока ионов Ti⁺ на поверхность цилиндрического изделия, вращающегося вокруг оси симметрии, расположенной перпендикулярно потоку падающих ионов. Исследование проводится в рамках модели нелокального термоупругого пика низкоэнергетического иона с учетом процессов распыления атомов покрытия. Рассмотрены случаи постоянного и импульсного потенциалов на подложке. Показано, что внутренние напряжения в покрытии TiN, осаждаемом на вращающийся цилиндр, на ~20 % меньше, чем в покрытии, осаждаемом на плоскую подложку, расположенную перпендикулярно падающему потоку ионов. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample Характеристики покриття TiN, що осаджується вакуумно-дуговим методом на циліндричний зразок, що обертається Характеристики покрытия TiN, осаждаемого вакуумно-дуговым методом на вращающийся цилиндрический образец Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample |
| spellingShingle |
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample Kalinichenko, A.I. Strel’nitskij, V.E. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title_short |
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample |
| title_full |
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample |
| title_fullStr |
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample |
| title_full_unstemmed |
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample |
| title_sort |
characteristics of tin coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample |
| author |
Kalinichenko, A.I. Strel’nitskij, V.E. |
| author_facet |
Kalinichenko, A.I. Strel’nitskij, V.E. |
| topic |
Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet |
Low temperature plasma and plasma technologies |
| publishDate |
2019 |
| language |
English |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Характеристики покриття TiN, що осаджується вакуумно-дуговим методом на циліндричний зразок, що обертається Характеристики покрытия TiN, осаждаемого вакуумно-дуговым методом на вращающийся цилиндрический образец |
| description |
The dependences of the growth rate and intrinsic stress on the accelerating potential for coating TiN deposited from the Ti⁺ ion flow on the surface of cylindrical article are investigated theoretically. The sample rotates around the symmetry axis perpendicular to the flow of incident ions. The study is carried out within the framework of the model of the nonlocal thermoelastic peak of the low-energy ion, taking into account the sputtering of the coating atoms. The cases of the DC mode and the pulsed potential mode are considered. It is shown that the intrinsic stress in the coating TiN to be deposited on the rotating cylinder are ~ 20 % less than in the coating deposited on the flat substrate located perpendicular to the incident ion flow.
Теоретично досліджуються залежності швидкості росту і внутрішнього напруження від прискорюючого потенціалу для покриття TiN, що осаджується з потоку іонів Ti⁺ на поверхню циліндричного виробу, що обертається навколо осі симетрії, розташованої перпендикулярно потоку падаючих іонів. Дослідження проводиться в рамках моделі нелокального термопружного піку низькоенергетичного іона з урахуванням процесів розпилення атомів покриття. Розглянуто випадки постійного та імпульсного потенціалів на підкладці. Показано, що внутрішні напруження в покритті TiN, що осаджується на циліндр, що обертається, на ~ 20 % менше, ніж у покритті, що осаджується на плоску підкладку, розташовану перпендикулярно падаючому потоку іонів.
Теоретически исследуются зависимости скорости роста и внутренних напряжений от ускоряющего потенциала для покрытия TiN, осаждаемого из потока ионов Ti⁺ на поверхность цилиндрического изделия, вращающегося вокруг оси симметрии, расположенной перпендикулярно потоку падающих ионов. Исследование проводится в рамках модели нелокального термоупругого пика низкоэнергетического иона с учетом процессов распыления атомов покрытия. Рассмотрены случаи постоянного и импульсного потенциалов на подложке. Показано, что внутренние напряжения в покрытии TiN, осаждаемом на вращающийся цилиндр, на ~20 % меньше, чем в покрытии, осаждаемом на плоскую подложку, расположенную перпендикулярно падающему потоку ионов.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194704 |
| citation_txt |
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample / A.I. Kalinichenko, V.E. Strel’nitskij // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 142-144. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT kalinichenkoai characteristicsoftincoatingdepositedbyvacuumarcmethodonrotatingcylindricalsample AT strelnitskijve characteristicsoftincoatingdepositedbyvacuumarcmethodonrotatingcylindricalsample AT kalinichenkoai harakteristikipokrittâtinŝoosadžuêtʹsâvakuumnodugovimmetodomnacilíndričniizrazokŝoobertaêtʹsâ AT strelnitskijve harakteristikipokrittâtinŝoosadžuêtʹsâvakuumnodugovimmetodomnacilíndričniizrazokŝoobertaêtʹsâ AT kalinichenkoai harakteristikipokrytiâtinosaždaemogovakuumnodugovymmetodomnavraŝaûŝiisâcilindričeskiiobrazec AT strelnitskijve harakteristikipokrytiâtinosaždaemogovakuumnodugovymmetodomnavraŝaûŝiisâcilindričeskiiobrazec |
| first_indexed |
2025-12-07T15:51:50Z |
| last_indexed |
2025-12-07T15:51:50Z |
| _version_ |
1850865311424708608 |