The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
The effect of Ag-doped aluminium oxide coatings deposited by magnetron sputtering method on the antibacterial efficiency against Gram-positive, Gram-negative bacteria and fungi has been investigated. The structure and composition of coatings were analysed by means of scanning electron microscopy (SE...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2019 |
| Автори: | Safonov, V., Donkov, N., Zykova, A., Avramov, L., Dudin, S., Yakovin, S., Naidenski, H., Avramova, I. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194716 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro / V. Safonov, N. Donkov, A. Zykova, L. Avramov, S. Dudin, S. Yakovin, H. Naidenski, I. Avramova // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 187-189. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
Morphology and sputtering of tungsten nitrides coatings exposed to deuterium plasma
за авторством: Tolstolutskaya, G.D., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Tolstolutskaya, G.D., та інші
Опубліковано: (2023)
Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
The biomedical application and corrosion properties of implanted materials with protective coatings
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)
Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)
Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
The study of the oxide coating effect on bone–implant interface formation by means of electron microscopy method with energy dispersive x-ray analysis
за авторством: Gudakova, A.A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Gudakova, A.A., та інші
Опубліковано: (2007)
Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)
Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
Investigations of thermal plasma of electric arc discharge between composite Ag–C electrodes
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2016)
Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
Cavity with distributed dielectric coating for subterahertz second-harmonic gyrotron
за авторством: Shcherbinin, V.I., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Shcherbinin, V.I., та інші
Опубліковано: (2016)
Performance of thermal barrier coatings produced by smart plasma processing
за авторством: Kobayashi, Akira
Опубліковано: (2006)
за авторством: Kobayashi, Akira
Опубліковано: (2006)
Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
Functional protective ZrN coatings on implants for trauma surgery
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
Structure and properties of the (Cr, Al)N coatings deposited by PIII&D method
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)
Tribological properties of vacuum arc Cr-O-N coatings in macro- and microscale
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Anti-corrosion ceramic coatings on the surface of Nd-Fe-B repelling magnets
за авторством: Taran, A.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Taran, A.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Nanostructured formations and coatings created on the surface of materials exposed to compression plasma flows
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
Сharacterization of ARC-PVD ZrN nanostructured coatings by using the fractals theory
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)
Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Erosion, permeation and outgassing performances of tin coating under/after hydrogen plasma iffadiation
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Схожі ресурси
-
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016) -
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007) -
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007) -
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021) -
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)