Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
The presented paper summarizes the results of the last works of the authors on modeling the processes of heating and evaporation of macroparticles in a plasma-beam system. The emphasis are made on the influence of the parameters of the plasma as well as the electron beam introduced into the plasma o...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2021 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2021
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194734 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems / A.A. Bizyukov, A.D. Chibisov, E.V. Romashchenko, V.V. Masich // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 69-73. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)
Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)
Dynamics of macroparticle in a weakly collisional plasma
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)
Characterization of plasma and emergent ion beam in a compact helicon source with permanent magnets
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Peculiarities of interaction of Cu-W composite materials with thermal arc discharge plasma
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
Plasma-surface interaction of electric arc discharge between composite Cu-Cr electrodes
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2020)
The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)
The interaction of a supersonic plasma jet containing nanoparticles with a substrate
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2021)
Shock alloying of metals by cumulative plasma streams
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
Optimization of the magnetic system of a vacuum-arc plasma source with a straight line filter
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)
The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)
Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Combustion of ethanol+air mixture supported by transverse arc plasma
за авторством: Yukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Yukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Kinetics of processes in air plasma discharges at atmospheric pressure in the transverse flow of gas
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
Emission characteristics of gas discharge plasma on mixtures of cadmium diodide vapor, helium and xenon
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Nanostructured formations and coatings created on the surface of materials exposed to compression plasma flows
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)