Operational characteristics of the electron accelerator based on the plasma-filled diode
The paper is concerned with the plasma-filled diode performance in the intensive mode regulated by means of external gas puffing. The possibility to smoothly vary the plasma parameters in the discharge gap zone, and thus, to optimize the main diode characteristics (Ucutoff, Icutoff) by the external...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2021 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2021
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194736 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Operational characteristics of the electron accelerator based on the plasma-filled diode / E.I. Skibenko, A.N. Ozerov, I.V. Buravilov, V.B. Yuferov // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 78-83. — Бібліогр.: 20 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)
Technological accelerator with closed electron drift for surface treatment
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Axial coil accelerator of plasma ring in the atmospheric pressure air
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Peculiarities of self-sustained discharge in closed electron drift accelerator based on permanent magnets
за авторством: Pavlov, S.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Pavlov, S.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)
Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Cross-field mobility in a pure electron plasma
за авторством: Emily C. Fossum, та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Emily C. Fossum, та інші
Опубліковано: (2006)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Modernized technological accelerator with anode layer for ion cleaning
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)
Investigation of characteristics of non-simultaneous arc discharge in titanium vapors in glow discharge electron evaporators
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Shock alloying of metals by cumulative plasma streams
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)
Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
Amplitude of vortical turbulence in crossed fields in separator of spent nuclear fuel at optimum parameters
за авторством: Levchuk, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Levchuk, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)
Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
Dynamics of macroparticle in a weakly collisional plasma
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)
On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
Emission characteristics of gas discharge plasma on mixtures of cadmium diodide vapor, helium and xenon
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Plasma-catalytic reforming of rich ethanol-air mixtures
за авторством: Fedirchyk, I.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Fedirchyk, I.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
Coagulation and dynamics nanoparticles in low pressure plasma jets
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
Plasma-catalytic system with wide-aperture rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasmagasdynamic experiments in Russia and prospects of plasma technology applications in aerodynamics
за авторством: Esakov, I.I., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Esakov, I.I., та інші
Опубліковано: (2000)
Influence of the plasma stream irradiation on the surface modification, structure and properties of materials
за авторством: Lapshin, V.I., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Lapshin, V.I., та інші
Опубліковано: (2000)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Plasma of electric arc discharge between Cu-Mo electrodes
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)