Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
This work is devoted to measuring the function of the distribution of charged particles of gas-discharge plasma in a magnetron sputtering system under conditions of non-potential “earth”. Measurements are carried out with the help of a three-electrode probe, which is installed in the cathode sputter...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2021 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2021
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194765 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 102-105. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862654948480647168 |
|---|---|
| author | Chunadra, А.G. Sereda, К.N. Tarasov, I.K. Makhlai, V.A. |
| author_facet | Chunadra, А.G. Sereda, К.N. Tarasov, I.K. Makhlai, V.A. |
| citation_txt | Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 102-105. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | This work is devoted to measuring the function of the distribution of charged particles of gas-discharge plasma in a magnetron sputtering system under conditions of non-potential “earth”. Measurements are carried out with the help of a three-electrode probe, which is installed in the cathode sputtering zone, with unsafe electrodes and housing. The selection of the analyzed particles was carried out through a screen located under floating potential. Effect of additional magnetic insulation anode of MSS МАG-5 on ion and electron distribution functions was investigated.
Робота присвячена вимірюванню функції розподілу заряджених частинок газорозрядної плазми в магнетронній розпорошувальній системі в умовах непотенційної «землі». Вимірювання проведені за допомогою триелектродного зонду, який встановлено в зоні катодного розпилення, з незаземленими електродами і корпусом. Відбір досліджуваних частинок проводили через екран, розташований під плаваючим потенціалом. Досліджено вплив додаткової магнітоізоляції анода МРС МАГ-5 на функції розподілу іонів та електронів.
Работа посвящена измерению функции распределения заряженных частиц газоразрядной плазмы в магнетронной распылительной системе в условиях непотенциальной «земли». Измерения проведены с помощью триэлектродного зонда, расположенного в зоне катодного распыления, с незаземленными электродами и корпусом. Отбор исследуемых частиц проводили через экран, находящийся под плавающим потенциалом. Исследовано влияние дополнительной магнитоизоляции анода МРС МАГ-5 на функции распределения ионов и электронов.
|
| first_indexed | 2025-12-02T01:37:52Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-194765 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-02T01:37:52Z |
| publishDate | 2021 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Chunadra, А.G. Sereda, К.N. Tarasov, I.K. Makhlai, V.A. 2023-11-29T15:08:44Z 2023-11-29T15:08:44Z 2021 Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 102-105. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 51.50.+v, 52.25.Jm https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194765 This work is devoted to measuring the function of the distribution of charged particles of gas-discharge plasma in a magnetron sputtering system under conditions of non-potential “earth”. Measurements are carried out with the help of a three-electrode probe, which is installed in the cathode sputtering zone, with unsafe electrodes and housing. The selection of the analyzed particles was carried out through a screen located under floating potential. Effect of additional magnetic insulation anode of MSS МАG-5 on ion and electron distribution functions was investigated. Робота присвячена вимірюванню функції розподілу заряджених частинок газорозрядної плазми в магнетронній розпорошувальній системі в умовах непотенційної «землі». Вимірювання проведені за допомогою триелектродного зонду, який встановлено в зоні катодного розпилення, з незаземленими електродами і корпусом. Відбір досліджуваних частинок проводили через екран, розташований під плаваючим потенціалом. Досліджено вплив додаткової магнітоізоляції анода МРС МАГ-5 на функції розподілу іонів та електронів. Работа посвящена измерению функции распределения заряженных частиц газоразрядной плазмы в магнетронной распылительной системе в условиях непотенциальной «земли». Измерения проведены с помощью триэлектродного зонда, расположенного в зоне катодного распыления, с незаземленными электродами и корпусом. Отбор исследуемых частиц проводили через экран, находящийся под плавающим потенциалом. Исследовано влияние дополнительной магнитоизоляции анода МРС МАГ-5 на функции распределения ионов и электронов. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration Керування процесами іонізації в магнетронній розпорошувальній системі зміною конфігурацій магнітного поля Управление процессами ионизации в магнетронной распылительной системе сменой конфигураций магнитного поля Article published earlier |
| spellingShingle | Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration Chunadra, А.G. Sereda, К.N. Tarasov, I.K. Makhlai, V.A. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration |
| title_alt | Керування процесами іонізації в магнетронній розпорошувальній системі зміною конфігурацій магнітного поля Управление процессами ионизации в магнетронной распылительной системе сменой конфигураций магнитного поля |
| title_full | Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration |
| title_fullStr | Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration |
| title_full_unstemmed | Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration |
| title_short | Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration |
| title_sort | control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194765 |
| work_keys_str_mv | AT chunadraag controlofionizationprocessesinmagnetronsputteringsystembychangingmagneticfieldconfiguration AT seredakn controlofionizationprocessesinmagnetronsputteringsystembychangingmagneticfieldconfiguration AT tarasovik controlofionizationprocessesinmagnetronsputteringsystembychangingmagneticfieldconfiguration AT makhlaiva controlofionizationprocessesinmagnetronsputteringsystembychangingmagneticfieldconfiguration AT chunadraag keruvannâprocesamiíonízacíívmagnetronníirozporošuvalʹníisistemízmínoûkonfíguracíimagnítnogopolâ AT seredakn keruvannâprocesamiíonízacíívmagnetronníirozporošuvalʹníisistemízmínoûkonfíguracíimagnítnogopolâ AT tarasovik keruvannâprocesamiíonízacíívmagnetronníirozporošuvalʹníisistemízmínoûkonfíguracíimagnítnogopolâ AT makhlaiva keruvannâprocesamiíonízacíívmagnetronníirozporošuvalʹníisistemízmínoûkonfíguracíimagnítnogopolâ AT chunadraag upravlenieprocessamiionizaciivmagnetronnoiraspylitelʹnoisistemesmenoikonfiguraciimagnitnogopolâ AT seredakn upravlenieprocessamiionizaciivmagnetronnoiraspylitelʹnoisistemesmenoikonfiguraciimagnitnogopolâ AT tarasovik upravlenieprocessamiionizaciivmagnetronnoiraspylitelʹnoisistemesmenoikonfiguraciimagnitnogopolâ AT makhlaiva upravlenieprocessamiionizaciivmagnetronnoiraspylitelʹnoisistemesmenoikonfiguraciimagnitnogopolâ |