Зображення обкладинки

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration

This work is devoted to measuring the function of the distribution of charged particles of gas-discharge plasma in a magnetron sputtering system under conditions of non-potential “earth”. Measurements are carried out with the help of a three-electrode probe, which is installed in the cathode sputter...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2021
Автори:	Chunadra, А.G., Sereda, К.N., Tarasov, I.K., Makhlai, V.A.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2021
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194765
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 102-105. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)

Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)

The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Features of plasma formation for SNF magnetoplasma reprocessing at ionization stage
за авторством: Katrechko, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

Investigation of parameters of the working substance - low temperature plasma in the ionization resonator chamber of the RF reactive engine
за авторством: Vdovin, V.S., та інші
Опубліковано: (2003)

Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
за авторством: Pugatch, V.M., та інші
Опубліковано: (2007)

Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Control of reduced electric field in the positive column of a pulsed discharge in CO₂
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2023)

Discharge characteristics in the MPC channel in presence of external longitudinal magnetic field
за авторством: Solyakov, D.G., та інші
Опубліковано: (2019)

Magnetic field influence on the shape of eroding surface of graphite cathodes
за авторством: Aksenov, I.I., та інші
Опубліковано: (2002)

The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)

Origin of transversal displacement of the plasma flux moving in a curvilinear magnetic field
за авторством: Timoshenko, A.I.
Опубліковано: (2008)

The charged particles movement on the closed trajectories in the crossed constant electrical and magnetic fields
за авторством: Kirochkin, Yu.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)

Influence of the magnetic field on particle dynamics in capillary discharge of the soft X-ray laser
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Mechanisms affecting the speed and direction of vacuum arc cathode spots movement in a magnetic field
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2023)

Electromagnetic fields and heavy-ion orbiting in a low-temperature plasma with a magnetic pumping
за авторством: Shamrai, K.P., та інші
Опубліковано: (2008)

Break-down of the magnetically insulated diode
за авторством: Zagrebelnyy, I.A., та інші
Опубліковано: (2007)

Influence of the magnetic field of the current passing through the anode on a glow discharge in a coaxial system
за авторством: Melnichenko, M.S., та інші
Опубліковано: (2022)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

Accumulation and confinement of electrons in a penning trap with a central electrode
за авторством: Man’kovsky, S.N., та інші
Опубліковано: (2006)

Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002)

Non-destructive control of PVD coating surface defects
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)

Plasma-chemical method of grain fungal contamination control
за авторством: Taran, G.V., та інші
Опубліковано: (2020)