Buchumschlag

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride

Processes in reactive plasma during the magnetron deposition of tantalum oxynitride with ICP activation of reactive gas are studied in dependence on Oxygen fraction. Results of spectroscopic study of optical emission from the plasma and of mass-spectrometry of gas composition in the vacuum chamber i...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2021
Hauptverfasser:	Dudin, S., Yakovin, S., Zykov, A., Yefymenko, N.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2021
Schlagworte:	Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194770
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride / S. Dudin, S. Yakovin, A. Zykov, N. Yefymenko // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 122-126. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Ähnliche Einträge

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
von: Yakovin, S., et al.
Veröffentlicht: (2016)

Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
von: Yakovin, S., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
von: Walkowicz, J., et al.
Veröffentlicht: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
von: Walkowicz, J., et al.
Veröffentlicht: (2007)

On the influence of zirconium and tantalum impurities on the transport properties of multicomponent thermal plasma
von: Porytskyy, P.V., et al.
Veröffentlicht: (2019)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
von: Safonov, V., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2020)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
von: Dudin, S.V., et al.
Veröffentlicht: (2006)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
von: Goncharov, A., et al.
Veröffentlicht: (2005)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
von: Fedorchenko, V.D., et al.
Veröffentlicht: (2005)

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
von: Dobrovol's'kii, A.M., et al.
Veröffentlicht: (2007)

Investigation of parameters of the working substance - low temperature plasma in the ionization resonator chamber of the RF reactive engine
von: Vdovin, V.S., et al.
Veröffentlicht: (2003)

Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
von: Aksenov, I.I.
Veröffentlicht: (2002)

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
von: Langner, J., et al.
Veröffentlicht: (2002)

On the optical properties of the nonideal plasma of electrical pulse discharge in water
von: Starchyk, P.D., et al.
Veröffentlicht: (2007)

Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
von: Fedorchenko, V.D., et al.
Veröffentlicht: (2007)

Ion separation in a plasma mass filter based on the band gap filter principle
von: Ilichova, V.O.
Veröffentlicht: (2019)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
von: Langner, J., et al.
Veröffentlicht: (2000)

Kinetic simulaton of CO₂ conversion in low-pressure electrodeless plasma
von: Dudin, S., et al.
Veröffentlicht: (2022)

Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
von: Brown, I.G., et al.
Veröffentlicht: (2005)

The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
von: Antonova, T.N., et al.
Veröffentlicht: (2003)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
von: Panchenko, O.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2003)

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2021)

Ion source of reactive gases with decreased neutral gas inleakage
von: Lymar, A.G., et al.
Veröffentlicht: (2005)

Optical properties and some applications of plasma–liquid system with discharge in the gas canal with liquid wall
von: Veremii, Iu.P., et al.
Veröffentlicht: (2006)

The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
von: Bondarenko, V.N., et al.
Veröffentlicht: (2008)

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
von: Bordenjuk, I.V., et al.
Veröffentlicht: (2008)

Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
von: Famakinwa, T., et al.
Veröffentlicht: (2000)

Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
von: Timoshenko, A.I., et al.
Veröffentlicht: (2007)

Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode
von: Borisko, V.N., et al.
Veröffentlicht: (2002)

The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
von: Zykova, A., et al.
Veröffentlicht: (2007)

2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
von: Gapon, A.V., et al.
Veröffentlicht: (2006)

Emission spectra and current characteristics of negative corona discharge in an electrode system with liquid anode
von: Bolotov, O.V., et al.
Veröffentlicht: (2020)

Investigation of thin films deposition into porous material
von: Sedláková, L., et al.
Veröffentlicht: (2006)

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
von: Fedorchenko, V.D., et al.
Veröffentlicht: (2008)

Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
von: Khomich, V.A., et al.
Veröffentlicht: (2022)

On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
von: Ahadi, Amir Mohammad, et al.
Veröffentlicht: (2016)

Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
von: Krasnyj, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2007)